판매용 중고 AIXTRON AIX 2600 G3 HT #293592763

AIXTRON AIX 2600 G3 HT는 박막 및 나노 재료 구조의 성장을위한 화학 증기 증착 (CVD) 장비입니다. 재료 과학, 광전자 공학, 반도체, 마이크로 시스템 기술 분야의 연구 개발 프로젝트에 이상적입니다. AIX 2600 G3 HT는 4 팔 형상을 가진 6 각형, 수평 원자로로, 최대 6 개의 프로세스 셀을 동시에 작동 할 수 있습니다. 개별 세포는 다양한 소스 재료와 호환되도록 설계되었으며, 낮은 수직 온도 구배 (gradient) 를 갖는 균일 한 온도 분포를 갖는다. 각 셀에는 수직 솔리드 소스 조작 시스템을 포함하여 독립적으로 제어 된 하단 소스, 중간 소스 및 상단 소스가 있습니다. 이 장치에는 RF/DC 플라즈마 발전기가 장착되어 있으며, RF (무선 주파수) 와 DC (직류) 의 조합을 사용하여 플라즈마를 만듭니다. RF/DC는 특히 증착 률, 층 균일 성 및 성장률에 대한 프로세스 반복 성을 증가시킬 수 있습니다. AIXTRON AIX 2600 G3 HT의 온도 범위는 10 ° ~ 350 ° C이며 4 가지 수준의 온도 균일성 중에서 선택할 수 있습니다. 최대 회전 속도 300rpm은 온도 프로파일의 균일성을 보장합니다. 각 소스 재료의 온도는 시스템 (machine) 에 의해 독립적으로 조정되고 면밀히 모니터링됩니다. AIX 2600 G3 HT의 증착 속도는 0.2 ~ 3.0nm/s이며 압력 범위는 0.2 ~ 3.0 torr입니다. 공구 (Tool) 에는 프로세스 변수를 모니터링하여 처리 중인 재료에 대한 최대의 제어 (control) 를 제공하는 완전 통합된 프로세스 제어 에셋이 제공됩니다. AIXTRON AIX 2600 G3 HT에는 긴급 차단 모델, 자동 아르곤 제거, 공기 샘플링 및 마른 배기 장비 등 여러 가지 안전 기능이 있습니다. 즉, 시스템이 안전하게 사용할 수 있고, 프로세스의 품질이 유지됩니다. 전반적으로 AIX 2600 G3 HT는 재료 과학 및 광전자 응용 분야에 효율적이고 다재다능한 단위입니다. 높은 균일성, 반복성, 속도를 제공하여 연구 프로젝트에 이상적인 선택입니다.