판매용 중고 AIXTRON AIX 2400 G3 HT #9352630

AIXTRON AIX 2400 G3 HT는 전자 및 재생 에너지 산업과 같은 산업 규모의 반도체 애플리케이션을 위해 설계된 고 처리량 원자로 장비입니다. 고급 설계는 챔버 전체에 걸쳐 고온 균일성 (High-temperity) 을 갖추고 있으며 유지 보수가 용이한 모듈식 설계입니다. 이 금속 유기 화학 증기 증착 (MOCVD) 원자로 시스템은 다음과 같은 기능을 제공합니다. 고효율 가스 분사: AIXTRON AIX 2400 G3/HT는 고급 가스 분사 장치를 사용하여 증착실에 신속하고 정확하게 반응성 물질을 도입합니다. 이 기계는 또한 증착 효율을 향상시키기 위해 여러 물질을 동시에 사용할 수 있습니다. 고온 효율성: 이 원자로는 최대 1100 ° C의 온도를 처리하도록 설계되어 단일 벽 탄소 나노 튜브, 질화 갈륨, 질화 하프늄 (hafnium nitride) 과 같은 박막 물질의 빠르고 균일 한 증착을 가능하게합니다. 최적의 도펀트 관리: AIX 2400 G3 HT는 균일 한 압력 및 온도 프로파일을 제공하여 정확한 도펀트 관리를 허용합니다. 이 도구는 또한 다양한 도펀트 소스 (dopant source) 를 제공하여 효율성을 높이고 수율을 높입니다. 강력한 액세서리 패키지: AIX 2400 G3/HT에는 배기 부품, 셔터, 도가니, 블레이드, 척, 펌프와 같은 다양한 구성 요소 및 소모품이 포함되어 있습니다. 따라서 고객은 고객의 요구에 맞게 효율적인 증착 (deposition) 프로세스를 쉽게 구축할 수 있습니다. 유지 관리를 위한 모듈식 설계: AIXTRON AIX 2400 G3 HT는 손쉬운 유지 관리 및 업그레이드를 위해 모듈식 설계를 채택했습니다. 또한 자산 업그레이드가 향상되고 다운타임이 줄어듭니다. AIXTRON (AIXTRON) 의 고급 산업용 원자로 모델 (Advanced Industrial-Grade Reactor Model) 은 씬 필름 (Thin Film) 및 기타 재료를 대규모로 입금하는 안정적이고 효율적인 방법을 찾는 기업에게 적합한 솔루션입니다. 높은 균일성, 효율적인 가스 주입, 최적의 도펀트 관리, 다양한 구성 요소 및 소모품을 제공합니다. 따라서, 높은 처리량 증착 공정이 필요한 반도체, 재생 에너지 및 기타 산업에 이상적인 선택입니다.