판매용 중고 AIXTRON AIX 200/4 RF #9195285

AIXTRON AIX 200/4 RF는 거의 나노 미터 박막 생산을 위해 특별히 설계된 공정 원자로입니다. 이 원자로는 업계에서 금속 (metal), 반도체 (semiconductor) 및 박막 (thin film) 에 대한 기타 기술과 같은 다양한 재료를 생산하기 위해 널리 사용되었습니다. 전극 플랫폼, 별도의 기판 평면 및 반응 챔버를 포함한 3 축 구성이 특징입니다. AIXTRON AIX 200/4 RF의 전극 플랫폼에는 주파수 스위핑 기능이 있는 RF 소스가 있습니다. 이를 통해 처리량을 높이고 제품 균일성을 향상시킬 수 있습니다. 또한, 전극은 주파수 및 전력 값 모두에서 쉽게 조정되어 플라즈마 방출 (emission) 과정을 최적화 할 수 있습니다. 기질 평면도 조정 가능하여, 사용자가 반응 챔버에서 기질의 위치를 조작 할 수 있습니다. AIXTRON AIX 200/4 RF 원자로를 다양한 구성을 수용하도록 프로그래밍 할 수도 있습니다. 최대 작동 온도 1600 ° C의 경우, 이 챔버는 스퍼터 증착, 웨이퍼 결합, 박막 성장 및 평면 화와 같은 프로세스에 사용될 수 있습니다. 또한, 이 원자로에는 온도 조절을위한 고출력 광학 피로미터가 장착되어 있습니다. 이를 통해 사용자는 얇은 필름의 정확하고 균질 한 성장을 달성 할 수 있습니다. AIXTRON AIX 200/4 RF는 다양한 작동 가스와 호환됩니다. 여기에는 아르곤, 크립톤, 질소 및 산소가 포함됩니다. 따라서, 원자로는 다양한 요구에 맞게 맞춤 될 수 있으며, 이는 최적의 반응 조건과 우수한 필름 품질 (film quality) 을 가능하게한다. 이 원자로에는 또한 뛰어난 온도, 압력, 전압 제어를 제공하기 위해 특수 환기 시스템 (special venting system) 을 갖춘 주택이 장착되어 있습니다. AIXTRON AIX 200/4 RF는 운영 유연성 외에도, 유지 관리가 용이하도록 설계되었으며, 쉽게 모니터링하고 문제를 해결할 수 있습니다. 이 원자로는 첨단 디지털 제어 (digital control) 및 진단 시스템 (diagnostic system) 을 통해 성능에 대한 실시간 피드백을 제공할 수 있습니다. 또한, 이 원자로는 최대 99 개의 사전 정의된 프로세스 레시피를 저장하는 내장 메모리 시스템 (내장 메모리 시스템) 을 갖추고 있으며, 이를 통해 사용자는 원하는 프로세스를 신속하게 회수하고 재개할 수 있습니다. 전반적으로 AIXTRON AIX 200/4RF 원자로는 유연성, 전력 및 신뢰성의 이상적인 조합을 제공합니다. 이 원자로는 프로그램 가능한 작동 모드, 종합적인 모니터링 및 진단 (monitoring and diagnostic) 기능을 통해 다양한 산업 응용 프로그램 내에서 정확성과 정확성으로 나노미터 (nanometer) 에 가까운 박막 (thin film) 을 성공적으로 생산할 수 있습니다.