판매용 중고 AIXTRON 2600G3 IC #9188592

AIXTRON 2600G3 IC는 AIXTRON의 고급 증착 도구로, 고품질 박막 재료를 기판에 입금하는 데 사용됩니다. 공구는 진공 챔버, 반응 챔버 및 소스 챔버로 구성됩니다. 특허받은 멀티 와이어 그리드 (Multiwire Grid) 와 가스 분사 장비를 갖추고 있어 탁월한 균일성과 유연성을 제공합니다. 공구의 주요 구성 요소는 진공 챔버 (vacuum chamber) 로 10-7 Torr에서 진공을 생성하는 데 사용됩니다. 챔버의 기본 압력은 10-9 Torr 미만입니다. 챔버에는 조정 창과 안전 방패가 장착되어 있습니다. 이것 은 "챔버 '가 여러 가지 압력 과 온도 범위 에서 작동 하는 데 안전 하다는 것 을 확인 하는 데 사용 된다. 2600G3 IC의 반응 챔버는 6 "폭 x 24" 높은 석영 창이있는 수직 원자로 챔버입니다. 최대 2000 ° C의 온도에 도달 할 수 있으며, 처리 중 기판의 정확한 위치를 지정하기 위해 고정밀 모션 컨트롤러 (high-precision motion controller) 에서 지원됩니다. 이것은 또한 온보드 미러 주입 쉴드 시스템 (integrated mirror-injection shield system) 의 도움을 받았으며, 이는 기판에 대해 매우 정확한 모션 제어를 제공합니다. 이 약실 에는 또한 특수 "가스 '주입 장치 가 있는데, 이것 은 증착 된" 필름' 의 질 을 향상 시키기 위한 "가스 '의 균일 하고 심지어 주사 까지도 제공 한다. AIXTRON 2600G3 IC의 소스 챔버 (source chamber) 는 재료가 처음에 증착을 위해 준비된 곳입니다. 이 챔버의 온도 범위는 -50 ° C ~ 1000 ° C이며, 도구의 고급 소프트웨어로 제어 및 모니터링 할 수 있습니다. 이 챔버에는 고품질, 재생 가능한 필름 성장을 제공하는 특수 설계 멀티 와이어 그리드 머신 (multiwire grid machine) 이 장착되어 있습니다. 전체적으로 2600G3 IC는 탁월한 영화 균일성, 유연성, 고품질 필름을 제공하는 고도의 증착 도구입니다. 산화물, 금속 및 기타 박막 재료의 증착 (deposition) 을 포함하여 다양한 박막 증착 응용 분야에 이상적인 선택입니다.