판매용 중고 AIXTRON 2600 G3 #9270061

AIXTRON 2600 G3는 다양한 박막의 대면적 증착을위한 고급 펄스 Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) 원자로입니다. 이 원자로는 반도체, 솔라 (solar), 디스플레이 (display) 생산에 대한 엄격한 요구 사항을 충족하는 고급 처리 기능으로 특별히 설계되었습니다. AIXTRON 2600G3에는 정밀 전압 제어, RF 전위 측정, 손쉬운 확장 가능한 프로세스 기능 등 다양한 자동 옵션이 있습니다. 이 장비는 최대 30 개의 배치를 동시에 처리할 수 있습니다. 2600 G3는 또한 고급 다중 단계 가스 흐름 제어, 쿼츠 튜브 프로세스 챔버, 개선 된 N 형 가스 흐름 시스템 및 통합 모니터링 장치를 제공합니다. 2600G3는 프로세스 및 플라 생산에 많은 이점을 제공합니다. 이 원자로는 광범위한 자동 처리 컴포넌트 (automated processing component) 를 갖추고 있으며, 넓은 지역에 걸쳐 균일 한 증착을 가능하게하며, 정밀도가 뛰어납니다. 박막 증착률 증가를 위해 높은 플라즈마 로딩을 제공합니다. 또한, 원자로는 최적의 플라즈마 형성 및 제어를 가능하게하는 정교한 온도 조절 기능을 제공합니다. AIXTRON 2600 G3의 합리적인 가스 흐름 기계는 정확한 증착 제어를 위해 가스 흐름을 극대화합니다. 이 원자로는 또한 실험실 사용과 산업용 공정 응용에 적합한 경량 (light weight) 과 소형 설계 (compact design) 를 제공합니다. 또한 AIXTRON 2600G3는 가혹한 산업 환경에서 작동하도록 특별히 설계되었습니다. 결론적으로, 2600 G3는 반도체, 태양 광 및 디스플레이 산업에서 박막 증착을위한 고급 자동 원자로입니다. 이 원자로는 견고하며 여러 자동 처리 구성 요소를 제공합니다. 향상된 가스 흐름 제어, 온도 조절 및 전력 제어가 특징입니다. 2600G3 는 또한 경량 (light weight) 과 소형 (compact) 설계를 통해 실험실, 산업용 공정 응용프로그램에 적합하며, 혹독한 환경에서 작동하도록 설계되었습니다.