판매용 중고 AIXTRON 2600 G3 #9031068

AIXTRON AIX 2600 G3는 원격 플라즈마 소스 원자로입니다. 반도체 및 마이크로 일렉트로닉스 생산을위한 최첨단 솔루션은 실리콘, 저마늄, 갈륨 비소 및 기타 III-V 기질을 포함한 다양한 물질의 고정밀 처리를 제공하도록 설계되었습니다. 그것은 추운 환경에서 기질에 화합물을 증착 할 수있는 특허를받은 C2 증착 기술 (C2 deposition technology) 을 특징으로합니다. AIXTRON AIX 2600G3는 높은 진공실, 공정 가스 장비, 터보 분자 펌프, 커패시터 및 RF 에너지 생성기와 같은 많은 구성 요소로 구성됩니다. 초고 진공실은 스테인리스 스틸로 만들어졌으며 ISO 5 청결 인증을 받았습니다. 가스시스템 (process gas system) 은 대체 소스 또는 1 개의 가스에서 물질을 증착 할 수있는 이중 질량 흐름 컨트롤러로 제어됩니다. 터보 분자 펌프는 챔버의 압력이 1 x 10-6 및 2 x 10-5 mbar 사이에 유지되도록 보장합니다. 커패시터는 AIX 2600 G3의 가장 중요한 구성 요소입니다. 그것 은 "에너지 '를 저장 하여" 에너지' 를 조절 하는 방법 으로 원자로 소스 에 방출 시켜서, 공학자 들 이 정밀 한 방법 으로 박막 성장 을 조절 할 수 있게 한다. 마지막으로, RF 에너지 생성기는 정현파 고주파 에너지를 생산합니다. 이 모든 구성 요소는 증착 과정을 정밀 제어하여 원하는 필름 두께, 균일 성, 화학량 론적 (stoichiometry) 및 순도 (purity) 를 달성합니다. 또한 AIX 2600G3 는 시간당 최대 12 개의 웨이퍼 플랫폼 (wafer platform) 으로 처리량이 높아 비용 효율적이고 안정적인 생산 툴입니다. 또한이 장치에는 프로세스 제어를 용이하게하는 통합 측정 기계가 있습니다. 결론적으로, AIXTRON AIX 2600 G3는 반도체 및 마이크로 일렉트로닉스 제조를위한 다양한 재료의 증착을 촉진하기 위해 설계된 고급 원격 플라즈마 소스 원자로 (Remote Plasma Source Reactor) 입니다. 이중 질량 흐름 컨트롤러, 터보 분자 펌프 (turbo molecular pump), 커패시터 (capacitor) 및 RF 에너지 생성기 (energy generator) 와 같은 최첨단 구성 요소를 사용하면 정확한 프로세스 제어를 통해 원하는 결과를 얻을 수 있습니다. 또한, 높은 처리량 및 통합 측정 툴을 통해 효율적이고 안정적인 생산 툴이 됩니다.