판매용 중고 AIXTRON 2400 G3 #9395961

AIXTRON 2400 G3는 주로 반도체 및 재료 연구 응용 프로그램에 사용되는 고급 시스템 반응성 아크 증착 전원입니다. 3 개의 챔버 아키텍처를 기반으로하며, 이는 가공 된 재료 특성을 정확하게 제어 할 수 있습니다. AIXTRON 2400G3은 고급 플라즈마 아크 증착 (plasma arc deposition) 기술을 사용하는데, 이는 본질적으로 산소 대기의 표적 물질을 기화시켜 기질에 융합시킵니다. 결과는 구조, 컴포지션 및 두께 측면에서 맞춤형 특성을 갖는 재료 계층 (layer of material) 입니다. 이러한 출력의 확장성을 통해 2400 G3는 높은 수준의 제어 및 사용자 정의가 필요한 연구 응용프로그램에 이상적입니다. 2400G3는 2 개의 독립적으로 구동되는 음극과 독립적 인 지상 장비를 갖춘 3 챔버 원자로 아키텍처를 제공합니다. 각 음극은 독점적 인 매개변수 (parameters) 세트를 통해 독립적으로 제어되며, 이는 출력 재료의 원하는 특성을 정확하게 계산할 수 있습니다. 이러한 매개 변수 중에는 기판 온도, 전력 수준, 시스템 압력, 이온 폭격 (스퍼터링), 가스 흐름, 마그네트론 크기 및 기판 이동 속도가 있습니다. 그 에 더하여, 여러 가지 기판 크기 에 걸친 광범위 한 재료 를 생성 하는 것 이 가능 하며, 한편, 원하는 재료 특성 의 구체적 인 점 을 고수 하는 것 이 가능 하다. 그렇다. AIXTRON 2400 G3에는 실시간 데이터 수집 장치 (Imal-Time Data Acquirition Unit) 가 장착되어 있어 증착 프로세스 중 또는 후에 데이터를 수집할 수 있습니다. 사용자는 이 시스템을 활용하여 재료 매개변수 (material parameter) 를 더욱 세분화하여 원하는 정확한 사양을 충족하는 객관적인 결과를 얻을 수 있습니다. 결국, 이 데이터 수집을 통해 전체 증착 과정 (full deposition process) 을 분석하여 결함 또는 불일치를 밝혀낼 수 있으며, 이를 통해 사용자는 신속하게 상황을 수정하고 실험을 계속할 수 있습니다. AIXTRON 2400G3 (AIXTRON 2400G3, AIXTRON 2400G3, AIXTRON 2400G3, AIXTRON 2400G3) 은 강력한 고급 툴로서 연구원들이 증착 과정에서 다양한 소재와 기판 크기에 걸친 확장성 (Scalability) 을 갖춘 독보적인 아키텍처와 다양한 설정 (Suite of Settings) 을 통해 사용자는 뛰어난 수준의 출력을 조정할 수 있습니다. 실시간 데이터 입수 자산 (real-time data acquisition asset) 의 도움을 받아 연구자들은 결과를 최적화하기 위해 프로세스를 더욱 개선할 수 있습니다. 이러한 기능을 함께 사용하면 2400 G3를 고급 실험실 실험에 없어서는 안될 구성 요소로 만들 수 있습니다.