판매용 중고 AGS MPS-450-RIE #9379089

AGS MPS-450-RIE (Reactive Ion Etcher) 는 비활성 가스가 사용되는 유도 결합 플라즈마 (ICP) 에칭 공정과 전자 사이클로트론 공명 (ECR) 공정을 사용하는 고급 에칭 장비입니다. 마이크로파. 이 원자로는 TSV (through-silicon vias) 에칭, MEMS 및 3D-IC 장치와 같은 다양한 에칭 응용 프로그램을 위해 설계되었습니다. 즉, 효율적이고 정확한 프로세스 제어를 통해 생산량을 극대화하고 비용을 절감할 수 있습니다. 이 시스템은 RF 전력, 가스 흐름, 챔버 압력 (chamber pressure) 을 제어하여 양의 에치 종과 음의 에치 종을 기판 표면에 증착 할 수 있습니다. 이 프로세스는 균일 한 에칭 깊이를 보장하며, 재료 범위에 걸쳐 탁월한 선택성을 제공합니다. 챔버 인테리어는 고온 작동을 위해 고급 스테인리스 스틸 챔버 (stainless steel chamber) 를 사용하여 구성됩니다. 이 챔버에는 내부 열 측정 시스템 (in-situ thermal measurement system) 과 냉각재 냉각 시스템 (cryo-cooling system) 이 장착되어 기판 온도를 정확하게 제어하여 최적의 표면 품질과 정확한 프로세스 제어를 제공합니다. MPS-450-RIE 는 RF 전원을 변조하여 에치 레이트 (etch rate) 및 선택성을 제어하는 다양한 기능을 제공하는 다중 주파수 RF 생성기를 갖추고 있습니다. 강력한 임베디드 (Embedded) 컴퓨터는 잘못된 작동을 감지하고 방지할 수 있는 대화형 제어 플랫폼을 제공합니다. 또한 추가 분석을 위해 모든 통계 데이터를 저장하고 표시합니다. 이 에처는 In-Situ End-Point Detection 및 Automated Wafer-sensing Loading 메커니즘을 위한 프로세스 지향 설계로 프로세스 결함을 크게 줄이고 전체 에칭 성능을 향상시킵니다. 한 단계에서 2 개의 웨이퍼 보트를 적재하기위한 빠른 변경 로딩 트레이가 있습니다. 또한 이더넷 (Ethernet) 및 직렬 연결 (Serial Connection) 을 통한 원격 작동을 지원하여 빠르게 변화하는 운영 환경의 요구 사항을 충족할 수 있습니다. AGS MPS-450-RIE는 처리량이 높은 고품질 에칭이 필요한 다양한 생산 프로세스에 적합합니다. 안정성, 효율성 및 내구성이 있어 업계 응용프로그램에 이상적인 선택이 됩니다.