판매용 중고 PREMTEK RTP 381 SA #9312338

PREMTEK RTP 381 SA는 최적화된 주기 시간을 통해 탁월한 성능을 제공하도록 설계된 고급 고속 열 프로세서입니다. RTP 381 SA는 독점적 인 폐쇄 루프 열 제어 시스템 (closed-loop thermal control system) 및 고급 전력 조절 기능을 사용하여 정밀한 열 안정성을 제공하고 높은 열 전달 속도를 달성합니다. 이 장치는 직경이 최대 200mm, 높이가 최대 25mm 인 웨이퍼를 처리 할 수 있습니다. 높은 정확도의 열 처리를 달성하기 위해 반복 가능하고 신뢰할 수있는 열 제어를 제공하도록 설계되었습니다. 이 시스템은 낮은 질소 압력 어닐링 (LNPA) 을 사용하며 프로그래밍 가능한 난방 및 냉각 프로파일을 가지고 있습니다. 온도 범위는 최대 1300 ° C이며 램프 업 (ram-up) 및 쿨다운 (cool-down) 주기 동안 최대 1500 와트의 최고 전력 수준에 도달 할 수 있습니다. 연속적인 유동 샤워 플레이트 (continuous flow shower plate) 는 웨이퍼 표면에 균일 한 온도 분포를 가능하게하여 프로세스 균일성을 향상시킵니다. 또한이 장치에는 웨이퍼 표면의 다양한 위치에서 균일 한 열 플럭스 (flux) 를 제공하기 위해 통합 된 이중 팔 공기 변위 장치 (dual-arm air displacement unit) 가 있습니다. PREMTEK RTP 381 SA는 실리콘, 갈륨 비소 및 기타 반도체 재료와 같은 다양한 기판 물질에 적용 될 수 있습니다. 이 장치는 우발적 인 과잉 (over-tempering) 또는 위험한 붕괴 가능성을 줄이기 위해 고급 안전 제어를 가지고 있습니다. 또한, RTP 381 SA는 액티브 포스 센서를 사용하여 열 런 어웨이 보호 (thermal runaway protection) 를 포함하여 웨이퍼 온도를 실시간으로 모니터링합니다. PREMTEK RTP 381 SA 는 효율성을 높이고 프로세스 주기를 최적화하는 다양한 기능을 갖추고 있습니다. 이러한 기능에는 프로그래밍 가능한 메모리 모드, 다중 레벨 온도 기록 로깅, 고해상도 온도 라벨링, 시프트 패턴 및 스팟 패턴 온도 수정, 레티클 패턴 온도 교정이 포함됩니다. 또한, 특정 프로세스에 맞게 장치를 더욱 사용자 정의하여, 정확성을 저하시키지 않고 최고의 성능을 제공해야 합니다 (영문).