판매용 중고 MODULAR PROCESS TECHNOLOGY / MPTC RTP-600S #293595367

MODULAR PROCESS TECHNOLOGY/MPTC RTP-600S는 반도체 제조업체 및 연구 실험실에서 대규모 웨이퍼의 anneal, dope 및 grow 필름에 사용되는 고급 빠른 열 프로세서입니다. MPTC RTP-600S는 독립형 도구와 더 큰 웨이퍼 스케일 열 처리 시스템 (wafer-scale thermal process system) 의 일부로 사용하도록 설계되었습니다. 독립적으로 제어되는 여러 챔버 영역을 사용하여 최대 300mm 직경의 샘플을 처리합니다. 빠른 램프 업/다운 기능은 다양한 유형의 고온 프로세스에 적합합니다. 모듈식 프로세스 기술 RTP-600S는 강력한 8kW IR 난방 소스와 함께 제공되며, 최대 1250oC의 온도에 도달 할 수 있습니다. 또한, 독점적 인 반사 가열 장비를 사용하여 시스템이 전체 웨이퍼 (wafer) 에 걸쳐 균일 한 온도를 유지하면서 빠르게 상승 또는 하강할 수 있습니다. 또한 지능형 열 제어 소프트웨어 (Intelligent Thermal Control Software) 를 통해 램프 속도와 최대 온도를 모두 구성하여 최적의 결과를 얻을 수 있습니다. 또한, RTP-600S는 특허를받은 쿨 다운 (cool-down) 기술을 사용하여 공정 챔버의 붕괴 시간을 1 초 미만으로 최소화합니다. 따라서 처리 속도가 빨라질 수 있습니다. 이 기계에는 여러 개의 센서와 PLC 기반 사용자 인터페이스가 장착되어 있어 열 프로세스 (thermal process) 를 정확하게 모니터링 및 제어할 수 있습니다. 마지막으로 MODULAR PROCESS TECHNOLOGY/MPTC RTP-600S는 안전을 염두에 두고 설계되었습니다. 화재 탐지 및 억제 시스템뿐만 아니라 긴급 차단 도구가 제공됩니다. 또한, 배기 여과 자산에는 프로세스 환경에서 유해 물질을 제거하는 활성화 된 목탄 필터가 내장되어 있습니다. 전반적으로, MPTC RTP-600S는 안정적이고 빠른 빠른 열 프로세서를 찾는 모든 반도체 제조업체 또는 연구 연구소에 적합한 선택 사항입니다. 강력한 난방 소스, 빠른 램프 속도, 탁월한 안전 기능으로 인해 웨이퍼 스케일 (wafer-scale) 고온 처리에 이상적입니다.