판매용 중고 GASONICS / NOVELLUS VHP #293756858

Rapid Thermal Processor (RTP) 라고도하는 GASONICS/NOVELLUS VHP는 집적 회로 제조에 사용되는 최첨단 반도체 처리 도구입니다. 이 첨단 기술은 빠르고 정밀한 열 처리 (thermal processing) 기능을 제공하여 반도체 장치 생산에 중요한 역할을합니다. GASONICS VHP는 속도, 온도 조절, 균일성 측면에서 탁월한 성능을 제공하여 반도체 업계에서 없어서는 안될 도구입니다. 노벨 러스 VHP (NOVELLUS VHP) 의 주요 특징 중 하나는 일반적으로 섭씨 800 ~ 1200도 범위의 정온을 위해 반도체 웨이퍼를 빠르게 가열하고 냉각시키는 능력입니다. 이 빠른 열 처리 능력을 통해 웨이퍼 (wafer) 표면에서 반도체 재료의 정확한 어닐링, 도펀트 활성화, 산화를 가능하게하며, 높은 성능과 안정성을 지닌 고급 반도체 (advanced semiconductor) 장치를 생성할 수 있습니다. VHP는 고출력 광원 (일반적으로 제논 램프) 을 사용하여 반도체 웨이퍼를 빠르게 가열합니다. 빛 "에너지 '는" 웨이퍼' 에 흡수 되어, 주위 물질 들 에 대한 원치 않는 열 효과 를 최소화 시키면서 온도 가 급속 히 증가 하게 된다. 난방 과정 의 이러 한 정확 한 제어 는 "웨이퍼 '표면 전체 의 균일 함 을 달성 하고 반도체 장치 의 질 과 안정성 을 보장 하는 데 필수적 이다. 빠른 난방 기능 외에도, GASONICS/NOVELLUS VHP는 열 처리 단계에서 정밀한 온도 램프 (ramping) 및 안정화를 가능하게하는 고급 온도 제어 시스템을 특징으로합니다. 온도 조절 (temperature control) 은 온도의 변화가 결함으로 이어질 수 있고 반도체 제조 공정의 전체 수율을 감소시킬 수 있기 때문에 원하는 재료 특성 (material properties) 과 장치 성능 (device performance) 을 달성하는 데 중요합니다. GASONICS VHP에는 고급 가스 흐름 (Advanced Gas Flow) 및 압력 제어 시스템 (Pressure Control System) 이 장착되어 있어 열 처리 중 프로세스 환경을 정확하게 제어 할 수 있습니다. 이것 은 "반도체 '물질 이" 웨이퍼' 표면 에서 오염 과 원치 않는 반응 을 최소화 시키면서, 산화 혹은 "어닐링 '과 같은 특정 한 처리 단계 에 필요 한 최적 의" 가스' 혼합물 과 압력 에 노출 되도록 한다. 노벨 러스 (NOVELLUS) VHP의 또 다른 주요 이점은 소형 설치 공간과 높은 처리량 기능으로, 대용량 반도체 제조 환경에 적합합니다. 이 시스템은 기존 반도체 (semiconductor) 제작 라인에 원활하게 통합할 수 있도록 설계되었으며, 제조업체는 생산량을 확장하고 시장 수요를 충족시킬 수 있는 유연성을 제공합니다. 전반적으로, VHP는 반도체 프로세싱에서 탁월한 성능, 정확성, 신뢰성을 제공하는 최첨단 고속 열 프로세서입니다. GASONICS/NOVELLUS VHP는 첨단 열 제어, 고속 처리 기능, 컴팩트 한 디자인으로, 향상된 성능과 효율성을 갖춘 고품질 장치를 생산하고자 하는 반도체 제조업체의 핵심 도구입니다.