판매용 중고 EATON NOVA / AXCELIS Reliance 850 #191216

EATON NOVA/AXCELIS Reliance 850은 반도체 업계의 고정밀 및 고속 열 처리를 위해 설계된 고급 고속 열 프로세서입니다. 업계에서 가장 발전된 기술로서, 뛰어난 반복성과 탁월한 정확성을 보장합니다. AXCELIS Reliance 850 은 사용자가 결함 감소, 결함 향상, 수율 증대 등의 효과를 제공하는 최대 수준의 신뢰성 있는 열 웨이퍼 (thermal wafer) 처리 제어 기능을 제공합니다. EATON NOVA Reliance 850은 사용자 제어로 인한 오류를 제거하면서 정확하고 일관된 열 처리를 제공하도록 설계되었습니다. 프로세서는 제어 알고리즘 (control algorithm) 을 사용하여 프로세스 중에 발생할 수 있는 변형을 보완하기 위해 실시간 응용프로그램 (real-time application) 을 지속적으로 모니터링하고 챔버의 온도를 지속적으로 조정합니다. 이 기능을 사용하면 결함이 적어 더 많은 반복 가능하고 일관성 있는 결과를 얻을 수 있습니다. 또한, 프로세서는 다양한 사용자 지정 옵션을 사용하여 사용자의 정확한 사양을 충족하도록 조정할 수 있습니다. (PHP 3, PHP 4) 예를 들어, 모든 웨이퍼 유형 (wafer type), 온도 범위, 프로세스 시간 (time) 을 처리하도록 설정할 수 있습니다. 따라서 복잡한 운영 또는 중요한 프로세스 흐름에 이상적인 솔루션이 됩니다. Reliance 850은 또한 최고의 정밀도를 제공합니다. "펄스 변조 '난방 기술 을 사용 하여 정확 한 온도 에 신속 하고 정확 하게 도달 할 수 있다. 또한 일반적인 빠른 열 프로세서 (Rapid Thermal Processor) 보다 높은 수준의 제어 (Control) 를 통해 정확한 온도에 도달하여 유지하여 오류를 최소한으로 줄입니다. 또한, 프로세서는 히터 (heater) 나 가스 라인 (gas line) 의 온도와 실제 웨이퍼 온도에 대한 실시간 피드백을 제공하여 사용자가 필요할 때 온도를 조정할 수 있습니다. EATON NOVA/AXCELIS Reliance 850은 사용자에게 탁월한 성능을 제공합니다. 프로세서는 빠른 열 처리 시간을 허용하며, 열산화물 결함의 위험을 줄이고, 수율을 향상시킵니다. 또한, 열 공정 (thermal process) 의 각 단계별로 최적의 시간을 예상할 수있는 고급 예측 (predictive) 모델이 있으며, 이는 그 어느 때보 다 빠른 프로세스 시간을 허용합니다. 마지막으로 AXCELIS Reliance 850 에는 포괄적인 툴이 함께 제공되며, 이를 통해 시스템을 최대한 활용할 수 있습니다. 이러한 도구에는 열 하중 모델링, 프로세스 튜닝, 히터 매핑, 가스 흐름 최적화 및 데이터 로깅이 포함됩니다. 이 모든 기능을 통해, 사용자는 프로세스를 모니터링, 조정하여 경쟁 속도 (competitive speed) 로 최고 수준의 품질을 얻을 수 있습니다. 전반적으로 EATON NOVA Reliance 850은 시장에서 가장 발전된 고속 열 프로세서입니다. 이전 모델의 성능을 초과하면서 신뢰성, 반복 가능, 매우 정밀한 처리 결과를 제공할 수 있습니다 (영문). 이 기술로 반도체 산업은 선진화의 경계를 계속 끌어올리고, 프로세스를 최적화하여 효율성을 극대화할 수 있다. & # 160; & # 160;