판매용 중고 APSYSTEM KORONA-1200P #293610309

APSYSTEM KORONA-1200P는 산업 환경에서 반도체 웨이퍼를 처리하도록 설계된 최첨단 RTP (Rapid Thermal Processor) 입니다. KORONA-1200P는 최대 1200 ° C의 온도에 정밀 조작 세라믹 난방 요소를 사용하여 최적의 성능과 열 정확도를 제공합니다. APSYSTEM KORONA-1200P 는 고급 안전 기능 (Advanced Safety Features) 과 디지털 프로세스 제어 (Digital Process Control) 를 갖추고 있어 각 열 주기 동안 사용자가 온도 프로파일을 정확하게 모니터링하고 조정할 수 있습니다. KORONA-1200P는 고급 강철 및 알루미늄 합금으로 만들어진 이중 벽 절연 챔버를 갖추고 있습니다. 이 챔버 (Chamber) 는 내부에서 균일 한 온도 및 압력 균등화를 제공하도록 설계되어 최소 온도 구배로 고온 프로세스를 달성 할 수 있습니다. 또한 챔버 (Chamber) 는 강제 공기 냉각 장비를 사용하여 사이클 간의 빠른 온도 복구를 보장하고 처리량을 최대화합니다. APSYSTEM KORONA-1200P는 또한 반응 챔버에 최적의 가스 주입을위한 소형 공정 가스 전달 시스템을 포함합니다. 이 장치는 수동으로 조절 가능한 공정 가스 유량 (process gas flow rate), 내장 질량 유량 미터 (built-in mass flow meter) 및 미립자 오염으로부터 보호하기위한 필터 트레인으로 구성됩니다. 이 기계는 정확하고 반복 가능한 프로세스 조건을 제공하므로, 사용자가 챔버 (chamber) 에서 일어나는 화학 반응을 정확하게 제어 할 수 있습니다. KORONA-1200P의 사용자 인터페이스는 직관적인 작동 및 매개 변수 조정을 제공하도록 설계되었습니다. 사용자는 챔버 온도 및 압력, 가공 가스 흐름 속도, 공정 타이밍 (process timing) 을 완전히 제어합니다. 또한 사용자는 챔버 구성 소프트웨어 (chamber configuration software) 를 사용하여 각 프로세스의 온도 프로파일을 조정할 수 있으며, 이를 통해 반복성 (repeatability) 을 극대화하고 생산량을 극대화할 수 있습니다. 요약하자면, APSYSTEM KORONA-1200P 는 업계 최고 수준의 성능과 전체 프로세스 제어를 제공하도록 설계된 업계 수준의 RTP 입니다. 챔버 (chamber) 구성 소프트웨어, 정밀 조작 세라믹 난방 요소, 디지털로 제어된 프로세스 매개변수 등은 사용자가 일관성 있고 반복 가능한 고성능 결과를 통해 웨이퍼를 처리할 수 있는 기능을 제공합니다.