판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Vantage #9284534

AMAT/APPLIED MATERIALS Vantage Rapid Thermal Processor는 고급 열 처리 장비로, 반도체 장치 제조업체가 가장 빠른 시간 내에 최고의 품질의 반도체 제품을 생산할 수 있습니다. 밀리초 과도 제어, 정밀 온도 프로파일 및 정교한 가스 전달 옵션을 통해 열 사이클링을 제공합니다. AMAT Vantage RTP 장비는 반도체 업계에서 가장 정교한 열 처리 도구 중 하나입니다. APPLIED MATERIALS Vantage RTP는 여러 가열 요소를 사용하여 각 처리 단계에서 정확한 온도 제어를 제공합니다. 이 가열 요소는 열을 방출하는 IR (infra-red) 라디에이터와 열을 전달하는 뜨거운 가스 원 (hot gas source) 으로 구성됩니다. IR 라디에이터 (IR Radiator) 와 핫 가스 발전기 (Hot Gas Generator) 는 정확한 온도 조절을 위해 2 개 또는 3 개의 모듈 배열로 배열됩니다. 열은 IR 라디에이터 (IR Radiator) 와 핫 가스 소스 (Hot Gas Source) 의 활성 제어를 통해 조절되어 정확한 양의 열이 웨이퍼에 적용되도록 합니다. Vantage RTP는 또한 사용자가 실시간으로 장치와 상호 작용할 수있는 PCC (Process Chamber Communication) 시스템을 제공합니다. 이 PCC 머신은 그래픽 사용자 인터페이스를 통해 현재 온도 프로파일, 챔버 셔터 동작, 온도 경보 (temperature alarm) 및 기타 매개변수에 대한 직접적인 피드백을 제공합니다. 또한, 이 툴은 데이터 마이닝 및 상세한 사후 처리를 위해 자동화된 실시간 로깅을 제공합니다. 이를 통해 사용자는 프로세스 데이터를 되돌아보고 필요에 따라 프로세스를 조정할 수 있습니다. AMAT/APPLIED MATERIALS Vantage RTP (Vantage RTP) 에는 다양한 기능을 갖춘 마이크로 프로세서가 장착되어 있어 열 프로파일을 정확하게 제어하고, 유연성을 처리할 수 있습니다. 예를 들어, AMAT Vantage RTP는 멀티 포인트 온도 프로파일 모드, 고속 램프 속도 모드, 저온 베이크 아웃 모드 및 저온 고속 열 어닐링 모드를 특징으로합니다. 이러한 사용자 프로그래밍 가능한 기능을 통해 사용자는 특정 요구 사항에 맞게 열 (thermal) 프로파일을 조정할 수 있습니다. APPLIED MATERIALS Vantage RTP에는 정확한 온도 조절 및 대기 구성 모니터링을 제공하는 온보드 가스 제어 자산 (GCS) 도 포함되어 있습니다. 또한 GCS를 사용하면 특정 가스 혼합물과 폐쇄 루프 피드백 제어 (closed-loop feedback control) 를 혼합하여 정확한 대기 제어를 할 수 있습니다. 이는 정확하고 반복 가능한 처리 조건을 보장합니다. 전반적으로 Vantage RTP는 강력하고 정교한 열 처리 모델입니다. 이 제품은 정확한 온도 조절 (temperature control) 및 사용자 프로그래밍 가능한 기능을 제공하여 특정 요구에 맞게 열 프로파일을 조정할 수 있습니다. 또한, GCS를 사용하면 프로세스 챔버의 분위기를 모니터링하고 제어 할 수 있습니다. 이는 정확하고 반복 가능한 처리 조건을 보장합니다.