판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS VANTAGE RADOX #9211114
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판매
ID: 9211114
웨이퍼 크기: 12"
빈티지: 2007
Rapid thermal processing system, 12"
Dual arm track robot edge grip
Control system features:
32-bit Micrprocessor control
Process parameter / Wafer history storage
Self diagnostics
Automated service routines / Host computer interface
Factory interface with (2) load ports, wafer mapping capability
System EMO with turn-to-release button
System water leak and smoke detectors
OHT WIP Delivery
Docked E99 reading capability
Enhanced 25 wafer FOUP
Docking flange shield
Upper E84 interface enabled OHT
Upper E84 sensors and cables
Hermos with RF E99 carrier ID
Operator access switch
Light curtain
4 Color configurable light tower (Front and rear)
LOTO Capability to lock out:
CDA to all slit valves
ISO Valves
Pneumatic doors
All gas / Liquid final valves
Heater power
(2) Operator interface CRT monitors:
Bay side (Through the wall flat panel with keyboard)
Plenum side (Flat panel with keyboard on stand & 25ft cable)
Diagnostic
Lamp head pump (RadOx chamber only)
Chamber pump (RadOx chamber only)
Lateral grain edge ring
Position A RTP radiance plus ATM vantage (V350):
Chamber A gas panel:
Gas MFC Size
N/O N2 50SLM
Hi O2 50SLM
Lo O2 5SLM
He 30SLM
N2 50SLM
N2 1sccm
N2 100SLM
H2 20SLM
H2 1SLM
Chamber B gas panel
Gas MFC Size
N/O N2 50SLM
Hi O2 50SLM
Lo O2 5SLM
He 30SLM
N2 50SLM
N2 1sccm
N2 100SLM
H2 20SLM
H2 1SLM
2007 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS VANTAGE RADOX는 반도체 산업을 위해 특별히 설계된 고급 빠른 열 프로세서 (RTP) 입니다. 이 장비는 저온에서 웨이퍼의 고속 열 처리를 제공하며, 필요에 따라 웨이퍼 온도를 정확하게 제어합니다. AMAT VANTAGE RADOX 장비는 운영 및 유지 보수가 용이한 단일 박스 설계를 갖춘 컴팩트한 자체 장착 장치입니다. 응용 재료 VANTAGE RADOX (VANTAGE RADOX) 는 큰 수평로 챔버를 특징으로하여 기판의 최대 클리어런스를 허용합니다. 이것은 여러 웨이퍼를 병렬로 처리할 수있는 충분한 공간을 제공하며, 높은 정확도를 제공합니다. 시스템의 정밀 온도 컨트롤은 안정성이 높고 반복 가능하며 온도 범위는 -150 ° C ~ 400 ° C입니다. 최대 40m/s의 강력한 용광로 풍속, 최대 1000W/cm ^ 2의 높은 열 플럭스 (flux) 를 통해 빠른 열 램프 및 안정성을 제공합니다. 이 장치는 웨이퍼 산화를 줄이고 고품질 열 처리 결과를 얻기 위해 중간 수준의 진공 (medium-low vacuum) 레벨로 설계되었습니다. 또한, VANTAGE RADOX 머신은 애플리케이션의 특정 요구 사항에 맞게 조정할 수 있는 다양한 가스 공급 (gas supply) 옵션을 갖춘 통합 가스 전달 도구를 제공합니다. 이러한 고유한 기능을 통해 열 처리 중 가스 환경 (gas environment) 과 그 전달 (delivery) 을 제어할 수 있습니다. 또한 사용자 보호를 극대화하는 고급 가스 안전 자산이 내장되어 있습니다. 이 모델은 가장 일반적인 200mm 및 150mm 웨이퍼에서 최대 450mm 웨이퍼까지 다양한 웨이퍼 크기를 지원할 수 있습니다. 이 다재다능성은 모든 공정의 열 처리를 용이하게하며 고열 어닐링 (high-heat annealing), 산화물 유전체 증착 (oxide idelectric deposition) 및 기타 고급 재료 처리와 같은 응용 분야에 이상적인 솔루션입니다. AMAT/APPLIED MATERIALS VANTAGE RADOX는 현대 반도체 산업의 요구를 충족시키기 위해 설계된 고급 장비입니다. 향상된 온도, 가스, 용광로 제어 옵션을 통해 정확하고 빠르고 안전한 열 처리 기능을 제공합니다. 미세 조정 된 "가스 '배달, 적응성 있는" 웨이퍼' 취급, 고급 안전 장비 등 은 모두 최대 의 처리 질 을 조성 하는 역할 을 하며, 또한 운영자 의 안전 도 보장 해 준다.
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