판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Radiance RTP #9026095

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ID: 9026095
Chamber only, 12" Included with Chamber: Edge Ring Rotor; Post Rotation; Maglev Radiance Reflector plate (no He Purge) Pyrometer gauges Radiance Lamp (full set included) Rev 1 Lamp head assembly Remote Radiance Power Box Original RTC computer (converted to Ethernet) Gas Panel: ISSG Ready Gas Lines: N2, O2, H2, N2O, NO, NH3 Unit 8156 MFCs Not Included with Chamber: System Main-frame Main-Frame Power box Vacuum Pump Power Interconnects Note: Chamber has not been decontaminated Idle date: 2009 2002 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Radiance RTP는 고속 열 처리를 위한 혁신적인 도구로서, 고급 반도체 제조를 위한 뛰어난 장치 성능과 수율을 제공합니다. RTP의 독특한 전자 레인지 유도 플라즈마 기술은 기질과 직접 접촉하지 않고 클린 룸 등급 공기에서 RF (Radio Frequency) 주파수를 사용하여 빠른 열 및 쿨 웨이퍼에 에너지 효율성을 극대화합니다. 이 방법은 직접 접촉으로 인한 오염 가능성을 없애 AMAT Radiance RTP (AMAT Radiance RTP) 를 높은 정확도와 일관성을 갖춘 여러 계층의 장치를 제작하는 데 이상적인 도구라고 할 수 있습니다. APPLIED MATERIALS Radiance RTP는 저 Kommunication 상호 연결의 열 프로파일을 조정하기위한 4 가지 열 처리 옵션을 제공합니다. 여기에는 저온 빠른 열 어닐링 (LT-RTA), 빠른 열 질소 생성 (RTN), 빠른 열 산화 (RTO) 및 빠른 열 처리 (RTP) 가 포함됩니다. 이러한 각 옵션은 개별적으로 구성하고 제어하여 정확한 열 제어 (thermal control) 기능을 제공합니다. RTP는 또한 빠른 온웨퍼 패턴화 및 비휘발성 메모리 장치 형성을위한 기능을 제공합니다. Radiance RTP는 정확성, 반복 가능성, 작동 편의성을 제공하는 최첨단 디지털 산업 컨트롤러를 갖추고 있습니다. 여기에는 실시간 모니터 및 기판 온도, 시간, 압력 등의 주요 매개변수 추세가 포함됩니다. AMAT ControlNet 소프트웨어는 기간별 데이터 액세스, 진단 작업, 유지 관리 작업 일정을 모두 지원합니다. 환경 성능 측면에서 AMAT/APPLIED MATERIALS Radiance RTP는 미립자 수준 감소, 폐기물 생성 최소화 및 방출 방지 처리를 제공합니다. 온와퍼 플라즈마 소스 생성기 (on-wafer plasma source generator) 는 또한 수정 손상을 피하고 장치 수명을 연장 할 수있는 초과 클럭 속도를 제공하여 프로세스 안정성과 균일성을 높입니다. AMAT Radiance RTP는 고급 반도체 제작 및 장치 생산을위한 다용도 도구입니다. 빠른 열 처리 (thermal processing) 기능은 높은 정확성과 일관성, 낮은 오염 위험, 가장 엄격한 업계 표준을 충족하는 환경 성능을 제공합니다. 혁신적인 마이크로파 유도 플라즈마 기술과 최첨단 디지털 산업 컨트롤러로, APPLIED MATERIALS Radiance RTP는 고성능 및 고수율 제작을 위한 최적의 선택입니다.
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