판매용 중고 ALLWIN21 AW B3000 #9201806
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ID: 9201806
웨이퍼 크기: 8"
Plasma asher / Descum equipment, 8"
Production-proven plasma stripper
Consistent wafer-to-wafer uniformity
Main body with wires
Control box
Keyboard, mouse
Transformer, circuit breaker, contactor
Cables
EMO, interlocks and watchdog function
Quartz chamber: Diameter 12” x depth 23”
Main control: PCB and DC
Main body of tools:
RF Match network integrated
Chamber door with quartz plate
Gas and vacuum lines connections
Options:
End-of-process (EOP)
Throttle valve for pressure control
Air-cooled RF generator
Thermocouple: Chamber temperature
Vacuum pump
Lamp tower alarm with buzzer
Main vacuum valve
MKS Baratron
Throttle valve
Touch screen GUI, 15"
High throughput: Up to 75 WPH
Gas Lines: Up to 5 isolated gas lines with MFCs
Asher rate: 0-0.1u/min
Positive PR: >0.2u/min
Negative PR
Uniformity: Up to 25%
Particulate: <0.05 /cm2
Selectivity: >1000:1
MTBF / MTTA / MTTR: 450 Hours / 100 Hours / 3.5 Hours
Plasma power: Air-cooled RF 13.56MHz
TC Option:
N2 Plasma: Up to 170°C
Types:
Barrel / Batch
Desktop
Stand alone
Wafer loading: Manual.
ALLWIN21 AW B3000은 최고 수준의 정확성과 정확성을 위해 설계된 빠른 열 프로세서입니다. 첨단 기술 (Advanced Technology) 을 활용하여 프로세스에서 제품으로의 빠른 열 전달을 제공하고 프로세스 제어를 위해 온도, 시간, 대기 (Atmosition) 에 대한 뛰어난 제어를 제공합니다. 이 장비는 고급 고온 고속 열 프로세서 제어 (Rapid Thermal Processor Control) 를 통해 처리 중 정확한 열 제어 기능을 제공합니다. AW B3000은 최대 2,700 ° C의 공정 온도와 정밀 제어를 위한 저소음 환경을 지원합니다. 또한 빠른 전송을 위해 고온 퀸치 챔버 (quench chamber) 를 갖춘 높은 보호 설계가 특징입니다. 프로세서는 개방형 튜브 챔버 (open-tube chamber) 설계를 통합하여 처리 중 대기 측면에서 더 큰 유연성과 제어를 가능하게 합니다. ALLWIN21 AW B3000에는 직접 가열 시스템이 장착되어 있으며, 처리 실 전체에서 가열도 가능합니다. 또한 다른 수준의 챔버에서 균일 한 온도 분포를 보장합니다. 온도의 정확한 제어 및 반복성은 정교한 온도 모니터링 (temperature monitoring) 및 제어 단위 (control unit) 를 통해 촉진됩니다. +/- 1 ° C의 열 제어 정확도와 0.001 초의 시간 제어 정확도를 허용합니다. 온도와 빠른 반응 시간의 균일성을 확보하기 위해, 온도 조절 기계는 노출 차단 도구 (exposure shuttering tool) 로 향상됩니다. 또한 이 자산을 통해 사용자는 각 처리 단계의 노출 시간 (Exposure Time) 과 노출 횟수 (Exposure) 를 정확하게 제어할 수 있습니다. 이 모델에는 웨이퍼 및 기판의 빠른 로드 및 언로드를 위해 맞춤형 웨이퍼 리프터 (Wafer Lifter) 도 포함되어 있습니다. 고급 자동 웨이퍼 (automated wafer) 식별 장비도 있어 정확한 웨이퍼 로드 및 식별이 가능합니다. 더욱이, 이 시스템은 실시간 분석 및 피드백을 위해 자동화된 데이터 로깅 및 보고 기능을 갖추고 있습니다. AW B3000은 강력하고 정밀한 업계 표준 고속 열 프로세서입니다. 뛰어난 정밀도, 정확도, 처리 속도, 고급 온도 조절 및 보고 기능, 사용자 정의 가능한 리프트/서스펜션 시스템 등을 제공하여 손쉽게 웨이퍼, 기판 로딩/언로딩을 수행할 수 있습니다.
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