판매용 중고 ALLWIN21 AW 903e #9201821
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ID: 9201821
웨이퍼 크기: 3"-6"
TTW Plasma etcher, 3"-6"
Wafer loading: 3-Axis robot
Stationary cassette plate
Plasma power: RF 13.56 MHz
Type: Parallel / Single wafer process
Through the wall (TTW)
Gas lines: 1-3 Lines
Throughput: 30-60 WPH, Process dependent
Temperature: 6-65ºC (±2 ºC) Capability
Gas lines: (4) Gas lines with MFCs
Etcher rate:
AW-901eR: 0-8000A / minute
AW-903eR: 0-4000A / minute
Process dependent
Uniformity: Up to ±3%, Process dependent
Particulate: <0.05 / cm2
Selectivity:
901eR: 2-20:1
AW-903eR: 2-20:1
Process dependent
MTBF / MTTA / MTTR: 450 Hours / 100 Hours / 3.5 Hours
Options:
EOP Module with PCB
GEM/SECS II Function
Lamp tower alarm with buzzer
Throttle valve pressure control
Vacuum pump
Chiller for chuck and chamber
Through the wall
Main frame, standard
Pentium class PC with
Keyboard
Mouse
USB
SW Backup
Cables
Chuck:3"-6"
Wafer aligner / Cooling station
3-Axis integrated solid robot:
H-Zero (Standard)
H1-7 x 10.5 (TTW)
Fixed cassette station:
Chuck assembly
901eR Non-anodized
903eR Anodized with flat
903eR Anodized with flat
903eR Non-anodized with flat
Reactor Assembly:
901eR Non-anodized
903eR Anodized
903eR Non-anodized
903eR High performance
Direct cooling
Non direct cooling
Pins:
Quartz
Ceramic SST
Centering ring:
Aluminum
Ceramic
Main control board:
Gas box with (4) inline gas lines, MFC, filters, and pneumatic valves
RF Matching network with PCB
RF Generator: 13.56 MHz
MKS Elite: 300 HD
MKS Elite: 600 HD
MKS Elite: 1000 HD
ENI ACG 3
ENI ACG 10
AC / DC Box
ATM Sensor
UPC Pressure control
225 SCCM: 901eR
2000 SCCM: 903eR
MKS Baratron with peumatic Iiolation valve
Main vacuum valves
Front EMO interlocks
Touch screen GU, 15"
AW-901eR AW-903eR
Material Etched Polysilicon / Nitride Oxide,SOG,Nitride
Main etchant gases SG6, O2 / SF6,O2 CHF3,SF6,He
Other gases CHCLF2 / None None
Pressure (mTorr) 200-450 / 250-350 1600-3000
RF Power (Watts) 100-250 / 200-300 400-600
Temperature (C) 30 / 30 23
AC Power:
AC Module: 200-240 VAC Selectable, 50/60 Hz, 3-wire single-phase
Temperature controller: 200-240 VAC, 50/60 Hz, 3-wire single-phase
Vacuum pump: 208-230 / 460 VAC, 60 Hz or 200-220 / 380 VAC, 50Hz, 3 Phase
RF Generator: 200-240 VAC
PC / Monitor: 115 VAC
Cabinet exhaust: 100 cfm.
ALLWIN21 AW 903e는 반도체 산업을 위해 설계된 고성능 빠른 열 프로세서 (RTP) 입니다. "웨이퍼 '와 기판의 온도 상승/하향 처리, 그리고" 레이저' 나 "이온 임플랜터 '에 이상적이다. AW 903e는 최대 900 ° C 온도와 빠른 램프 속도 (100 ° C/초 ~ 800 ° C/초) 에서 정확한 열 제어를 제공합니다. ALLWIN21 AW 903e는 열 질량이 큰 이중 벽 냉각 장비를 사용하여 기판의 정확한 온도 조절을 가능하게합니다. 그것은 HARZ (High-Accuracy Rate Zone) 온도 제어를 특징으로하며, HARZ에 소요되는 시간을 기준으로 기판에 대한 정확한 열 효과를 허용합니다. AW 903e (AW 903e) 는 또한 완전 자동 프로세스 챔버 클리닝 시스템을 갖추고 있으며, 배치 간 챔버를 청소할 때 다운타임을 최소화하도록 설계되었습니다. 챔버는 H2O2, 건조 질소 또는 기타 적절한 청소 유체로 청소 할 수 있습니다. 청소를 수동으로 수행할 수도 있습니다. ALLWIN21 AW 903e (AW 903e) 는 스테인레스 (stainless) 스틸 캐비닛에 내장되어 있으며, 사용하기 쉬운 인터페이스와 컴퓨터 제어 콘솔로 완벽한 프로세스 제어를 제공합니다. 콘솔에서는 매개변수 값을 설정하고, 열 프로파일을 사용자정의하고, 프로세스 시퀀스를 정의할 수 있습니다. 또한 AW 903e (AW 903e) 를 사용하면 원격 작동을 통해 장치를 편리하고, 안전하며, 안정적으로 제어할 수 있습니다. 안전을 위해 ALLWIN21 AW 903e에는 비활성 가스 퍼지, 비상 차단 스위치, 빠른 감압을위한 압력 밸브, 온도 초과 승차 스위치 등 여러 가지 고급 안전 기능이 있습니다. 다른 기능으로는 공정을 시각적으로 검사할 수 있는 여러 개의 광학 창이있는 챔버 (chamber) 와 챔버 압력 (chamber pressure) 과 온도를 정상 작동 수준으로 재설정하는 자동 리셋 스위치 (automatic reset switch) 가 있습니다. AW 903e는 반도체 처리에 이상적인 빠른 열 프로세서 (RTP) 입니다. 정밀한 열 제어, 빠른 램프 속도, 완전 자동화 된 챔버 클리닝 머신 (chamber cleaning machine) 을 제공하여 웨이퍼 및 기판 처리에 이상적인 선택입니다. 고급 안전 기능 (Advanced Safety Features) 은 프로세서를 사용하는 동안 안심할 수 있는 기능을 제공하며, 콘솔을 통해 쉽게 사용자 정의할 수 있는 열 프로파일 (Thermal Profile) 과 프로세스 시퀀스를 사용할 수 있습니다.
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