판매용 중고 ALLWIN21 AW 903e #9201821

ALLWIN21 AW 903e
ID: 9201821
웨이퍼 크기: 3"-6"
TTW Plasma etcher, 3"-6" Wafer loading: 3-Axis robot Stationary cassette plate Plasma power: RF 13.56 MHz Type: Parallel / Single wafer process Through the wall (TTW) Gas lines: 1-3 Lines Throughput: 30-60 WPH, Process dependent Temperature: 6-65ºC (±2 ºC) Capability Gas lines: (4) Gas lines with MFCs Etcher rate: AW-901eR: 0-8000A / minute AW-903eR: 0-4000A / minute Process dependent Uniformity: Up to ±3%, Process dependent Particulate: <0.05 / cm2 Selectivity: 901eR: 2-20:1 AW-903eR: 2-20:1 Process dependent MTBF / MTTA / MTTR: 450 Hours / 100 Hours / 3.5 Hours Options: EOP Module with PCB GEM/SECS II Function Lamp tower alarm with buzzer Throttle valve pressure control Vacuum pump Chiller for chuck and chamber Through the wall Main frame, standard Pentium class PC with Keyboard Mouse USB SW Backup Cables Chuck:3"-6" Wafer aligner / Cooling station 3-Axis integrated solid robot: H-Zero (Standard) H1-7 x 10.5 (TTW) Fixed cassette station: Chuck assembly 901eR Non-anodized 903eR Anodized with flat 903eR Anodized with flat 903eR Non-anodized with flat Reactor Assembly: 901eR Non-anodized 903eR Anodized 903eR Non-anodized 903eR High performance Direct cooling Non direct cooling Pins: Quartz Ceramic SST Centering ring: Aluminum Ceramic Main control board: Gas box with (4) inline gas lines, MFC, filters, and pneumatic valves RF Matching network with PCB RF Generator: 13.56 MHz MKS Elite: 300 HD MKS Elite: 600 HD MKS Elite: 1000 HD ENI ACG 3 ENI ACG 10 AC / DC Box ATM Sensor UPC Pressure control 225 SCCM: 901eR 2000 SCCM: 903eR MKS Baratron with peumatic Iiolation valve Main vacuum valves Front EMO interlocks Touch screen GU, 15" AW-901eR AW-903eR Material Etched Polysilicon / Nitride Oxide,SOG,Nitride Main etchant gases SG6, O2 / SF6,O2 CHF3,SF6,He Other gases CHCLF2 / None None Pressure (mTorr) 200-450 / 250-350 1600-3000 RF Power (Watts) 100-250 / 200-300 400-600 Temperature (C) 30 / 30 23 AC Power: AC Module: 200-240 VAC Selectable, 50/60 Hz, 3-wire single-phase Temperature controller: 200-240 VAC, 50/60 Hz, 3-wire single-phase Vacuum pump: 208-230 / 460 VAC, 60 Hz or 200-220 / 380 VAC, 50Hz, 3 Phase RF Generator: 200-240 VAC PC / Monitor: 115 VAC Cabinet exhaust: 100 cfm.
ALLWIN21 AW 903e는 반도체 산업을 위해 설계된 고성능 빠른 열 프로세서 (RTP) 입니다. "웨이퍼 '와 기판의 온도 상승/하향 처리, 그리고" 레이저' 나 "이온 임플랜터 '에 이상적이다. AW 903e는 최대 900 ° C 온도와 빠른 램프 속도 (100 ° C/초 ~ 800 ° C/초) 에서 정확한 열 제어를 제공합니다. ALLWIN21 AW 903e는 열 질량이 큰 이중 벽 냉각 장비를 사용하여 기판의 정확한 온도 조절을 가능하게합니다. 그것은 HARZ (High-Accuracy Rate Zone) 온도 제어를 특징으로하며, HARZ에 소요되는 시간을 기준으로 기판에 대한 정확한 열 효과를 허용합니다. AW 903e (AW 903e) 는 또한 완전 자동 프로세스 챔버 클리닝 시스템을 갖추고 있으며, 배치 간 챔버를 청소할 때 다운타임을 최소화하도록 설계되었습니다. 챔버는 H2O2, 건조 질소 또는 기타 적절한 청소 유체로 청소 할 수 있습니다. 청소를 수동으로 수행할 수도 있습니다. ALLWIN21 AW 903e (AW 903e) 는 스테인레스 (stainless) 스틸 캐비닛에 내장되어 있으며, 사용하기 쉬운 인터페이스와 컴퓨터 제어 콘솔로 완벽한 프로세스 제어를 제공합니다. 콘솔에서는 매개변수 값을 설정하고, 열 프로파일을 사용자정의하고, 프로세스 시퀀스를 정의할 수 있습니다. 또한 AW 903e (AW 903e) 를 사용하면 원격 작동을 통해 장치를 편리하고, 안전하며, 안정적으로 제어할 수 있습니다. 안전을 위해 ALLWIN21 AW 903e에는 비활성 가스 퍼지, 비상 차단 스위치, 빠른 감압을위한 압력 밸브, 온도 초과 승차 스위치 등 여러 가지 고급 안전 기능이 있습니다. 다른 기능으로는 공정을 시각적으로 검사할 수 있는 여러 개의 광학 창이있는 챔버 (chamber) 와 챔버 압력 (chamber pressure) 과 온도를 정상 작동 수준으로 재설정하는 자동 리셋 스위치 (automatic reset switch) 가 있습니다. AW 903e는 반도체 처리에 이상적인 빠른 열 프로세서 (RTP) 입니다. 정밀한 열 제어, 빠른 램프 속도, 완전 자동화 된 챔버 클리닝 머신 (chamber cleaning machine) 을 제공하여 웨이퍼 및 기판 처리에 이상적인 선택입니다. 고급 안전 기능 (Advanced Safety Features) 은 프로세서를 사용하는 동안 안심할 수 있는 기능을 제공하며, 콘솔을 통해 쉽게 사용자 정의할 수 있는 열 프로파일 (Thermal Profile) 과 프로세스 시퀀스를 사용할 수 있습니다.
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