판매용 중고 ALLWIN21 AW 901e #9201807
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ID: 9201807
웨이퍼 크기: 3"-6"
Plasma etcher, 3"-6"
Wafer loading: 3-Axis robot
Stationary cassette plate
Plasma power: RF 13.56 MHz
Type: Parallel / Single wafer process
Stand alone
Gas lines: 1-3 Lines
Throughput: 30-60 WPH, Process dependent
Temperature: 6-65ºC (±2 ºC) Capability
Gas lines: (4) Gas lines with MFCs
Etcher rate:
AW-901eR: 0-8000A / minute
AW-903eR: 0-4000A / minute
Process dependent
Uniformity: Up to ±3%, Process dependent
Particulate: <0.05 / cm2
Selectivity:
901eR: 2-20:1
AW-903eR: 2-20:1
Process dependent
MTBF / MTTA / MTTR: 450 Hours / 100 Hours / 3.5 Hours
Options:
EOP Module with PCB
GEM/SECS II Function
Lamp tower alarm with buzzer
Throttle valve pressure control
Vacuum pump
Chiller for chuck and chamber
Through the wall
Main frame, standard
Pentium class PC with
Keyboard
Mouse
USB
SW Backup
Cables
Chuck:3"-6"
Wafer aligner / Cooling station
3-Axis integrated solid robot:
H-Zero (Standard)
H1-7 x 10.5 (TTW)
Fixed cassette station:
Chuck assembly
901eR Non-anodized
903eR Anodized with flat
903eR Anodized with flat
903eR Non-anodized with flat
Reactor Assembly:
901eR Non-anodized
903eR Anodized
903eR Non-anodized
903eR High performance
Direct cooling
Non direct cooling
Pins:
Quartz
Ceramic SST
Centering ring:
Aluminum
Ceramic
Main control board:
Gas box with (4) inline gas lines, MFC, filters, and pneumatic valves
RF Matching network with PCB
RF Generator: 13.56 MHz
MKS Elite: 300 HD
MKS Elite: 600 HD
MKS Elite: 1000 HD
ENI ACG 3
ENI ACG 10
AC / DC Box
ATM Sensor
UPC Pressure control
225 SCCM: 901eR
2000 SCCM: 903eR
MKS Baratron with peumatic Iiolation valve
Main vacuum valves
Front EMO interlocks
Touch screen GU, 15"
AW-901eR AW-903eR
Material etched Polysilicon / Nitride Oxide,SOG,Nitride
Main etchant gases SG6, O2 / SF6,O2 CHF3,SF6,He
Other gases CHCLF2 / None None
Pressure (mTorr) 200-450 / 250-350 1600-3000
RF Power (Watts) 100-250 / 200-300 400-600
Temperature (C) 30 / 30 23
AC Power:
AC Module: 200-240 VAC Selectable, 50/60 Hz, 3-wire single-phase
Temperature controller: 200-240 VAC, 50/60 Hz, 3-wire single-phase
Vacuum pump: 208-230 / 460 VAC, 60 Hz or 200-220 / 380 VAC, 50Hz, 3 Phase
RF Generator: 200-240 VAC
PC / Monitor: 115 VAC
Cabinet exhaust: 100 cfm.
ALLWIN21 AW 901e는 다양한 반도체 및 전자 장치 제조 프로세스에 사용되는 RTP (Rapid Thermal Processor) 입니다. 고속 샘플 로드/언로드, 독립 난방/냉각, 정밀 온도 조절 및 수소 감소 (옵션) 기능을 결합한 다중 영역 장비입니다. 기존 RTP 시스템보다 빠르고 효율적으로 작동하여 시간 (time) 과 자원 (resource) 을 절약할 수 있습니다. AW 901e는 로드의 물리적 특성에 따라 개별 난방 및 냉각 속도를 정확하게 조정할 수있는 DOCS (Dynamic Optimization Control Unit) 를 사용합니다. 이는 처리 중인 재료에 관계없이 프로세스의 균일성과 반복성을 보장합니다. 또한 온보드 데이터 획득 머신 (on-board data acquisition machine) 과 다양한 알람 기능 (alarm function) 이 장착되어 있어 프로세스의 다양한 측면을 상세한 모니터링 및 기록할 수 있습니다. ALLWIN21 AW 901e는 3 단계 프로세스를 사용하여 정확하고 반복 가능한 난방 및 냉각을 보장합니다. 첫 번째 단계는 온도 경사로, 목표 온도에 빠르게 도달합니다. 두 번째 단계는 소크주기 (soak cycle) 로 샘플이 열 평형에 도달 할 수 있습니다. 그 후 급속한 냉각 공정 (rapid cooling process) 이 발생하여 온도를 빠르게 줄이고 샘플 손상을 방지합니다. AW 901e (AW 901e) 는 자동 레시피 및 시퀀스 제어 설정을 통해 사용자 친화적으로 설계되어 전체 프로세스를 빠르고 쉽게 설정할 수 있습니다. 또한 팬 재정의 (override) 및 과온 검출 (over-temperature detection) 과 같은 다양한 안전 기능이 있습니다. 이를 통해 안전한 작동이 가능하며, 프로세스의 정확성을 보장할 수 있습니다. ALLWIN21 AW 901e는 다양한 산화물 제거, 빠른 온도 어닐링, 빠른 냉각, 치료, 고온 베이크 및 brazing 응용 분야에 사용될 수 있습니다. 유연성 있는 설계 를 통해 공정 을 사용자 정의 할 수 있으며, 소형 크기 (compact size) 를 통해 여러 곳 에 설치 할 수 있습니다. 많은 까다로운 애플리케이션에 적합한 안정적이고 경제적인 솔루션입니다.
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