판매용 중고 AG ASSOCIATES AW-810M #9013662

AG ASSOCIATES AW-810M은 반도체 장치 및 재료의 고온 처리를 위해 설계된 빠른 열 프로세서 (RTP) 입니다. RTP는 Ion Implantation, Epitaxy, Dry and Wet Etching, Diffusion and Rapid Thermal Annealing, N and P + ion Implantation 및 기타 관련 프로세스의 처리 요구 사항을 위해 특별히 설계되었습니다. AW-810M은 통일성과 반복 가능성을 극대화하면서 정밀한 열 처리를 제공합니다. RTP는 고압, 폐쇄 루프 난방 및 냉각실, 열전대 제어 왕복 단계, RF 및 DC 전력을위한 2 개의 발전기를 특징으로합니다. AG ASSOCIATES AW-810M에는 통합 전기 제어 시스템 (Electrical Control System) 과 고급 사용자 인터페이스 (Advanced User Interface) 가 장착되어 있으며, 전체 챔버에서 최대 1.5% 의 균일 성을 갖춘 정밀한 온도 제어를 제공합니다. AW-810M은 쿼츠 튜브 열 범위를 사용하여 최대 1150 ° C의 온도를 처리합니다. 히터의 최대 출력 전력은 4.5kw이며 1 밀리초에 최대 800 ° C의 램프 온도를 달성 할 수 있습니다. 균일 한 온도를 보장하기 위해 AG ASSOCIATES AW-810M은 효율적이고 빠른 열 순환 및 초당 약 100 ° C의 냉각 속도를 제공하는 열전 냉각 시스템을 사용합니다. RTP에는 열전대 제어 왕복 단계 (thermocouple-controlled reciprocating stage) 가 장착되어 있어 프로세스 사이클 동안 정확한 온도 조절이 가능합니다. 또한, AW-810M은 RF 및 DC 전력을위한 2 개의 전력 발전기와 저압에서 우수한 온도 균일성을위한 액체 질소 시스템을 갖추고 있습니다. AG ASSOCIATES AW-810M은 대학, 연구소, 산업 실험실 등 다양한 연구 개발 환경에 사용하도록 설계되었습니다. "RTP '는" 반도체' 처리 에 적합 하여 전통적 방법 에 비하여 시간 이 극적 으로 단축 된다. AW-810M은 작동하기 쉽고, 균일 한 온도와 프로세스 변수에 대한 정확한 제어를 제공합니다. 포함된 사용자 인터페이스 (User Interface) 를 통해 RTP 의 운영 및 유지 보수 작업을 쉽고 효율적으로 수행할 수 있으며, 이를 통해 사용자는 짧은 시간 내에 일관된 처리 결과를 얻을 수 있습니다.