판매용 중고 AG ASSOCIATES 410 #73198
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ID: 73198
웨이퍼 크기: 4"
Rapid Thermal Annealer, up to 4" wafers
Manual controls
Digital display
Custom quartz holders available
400°C to 1200°C
Max heat / cooling rate at 150°C/second.
AG ASSOCIATES 410은 어닐링 및 기타 고온 프로세스에 사용되는 고용량 RTP (Rapid Thermal Processor) 입니다. 2 개의 석영 석영 분할 평면 소결로를 사용하여 빠른 열 처리를 달성합니다. 410 모델의 챔버는 10 "x 6" x 4 "이며 온도 범위는 20 ° C ~ 800 ° C입니다. AG ASSOCIATES 410 (AG ASSOCIATES 410) 은 샘플 재료의 성능 저하와 균일 한 저압 분배를 허용하지 않고, 웨이퍼 레벨 처리의 까다로운 요구에 맞는 완벽한 환경을 제공합니다. 410 (410) 에는 2 개의 독립적 인 열 처리 챔버 (thermal processing chamber) 가 있으며, 동시에 두 챔버에서 서로 다른 온도에서 프로세스를 실행할 수 있습니다. 이렇게 하면 여러 온도 프로파일과 다른 시간 (시간) 프레임을 실행할 수 있습니다. 열적으로 프로그래밍 가능한 존 (zone) 은 온도 제어를 미세하게 조정하여 장비의 고정밀도에 추가 기여합니다. AG ASSOCIATES 410에는 멀티 가스 제어 장치 (multi-gas control) 가 장착되어 있으며, 다양한 가스 흐름 속도로 달성 할 수있는 다양한 프로세스 요구 사항을 수용 할 수있는 다기능 및 능력을 제공합니다. 410 모델에는 히터 (heater), 열원 (heat source) 의 역할을 하는 변압기 (transformer) 가 포함되어 있는데, 이는 히터에 고출력을 공급할 수 있습니다. 또한, AG ASSOCIATES 410 모델에는 정확한 온도 조절이 가능한 센서가 장착되어 있어 수동 모니터링이 필요하지 않습니다. 또한 410 은 임베디드 (Embedded) 컨트롤러로 시스템의 수동 및 자동 작동을 모두 지원합니다. 또한 장치 사용자 인터페이스를 사용하면 온도, 가스 (gas flow rate), 열 주기 (thermal cycle) 등 여러 매개변수를 설정할 수 있습니다. 이 기계의 안전 (Safety) 기능이 내장되어 있어 실행되는 프로세스가 안전하고 효율적인지 확인합니다. AG ASSOCIATES 410 고속 열 프로세서 (Rapid Thermal Processor) 는 신뢰할 수 있고 강력한 툴로서, 요구 사항이 많은 웨이퍼 레벨 프로세싱을 위한 높은 정밀도를 제공합니다. 독립적인 열 처리 챔버 (thermal processing chamber) 와 프로그래밍 가능한 영역 (programmable zone) 을 통해 웨이퍼 레벨 처리에 가장 적합한 솔루션 중 하나입니다. 또한 다용도, 임베디드 컨트롤러 (Embedded Controller), 멀티 가스 제어 (Multi-Gas Control) 를 통해 광범위한 어플리케이션에 이상적인 선택이 가능합니다.
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