판매용 중고 ALCATEL / ADIXEN / PFEIFFER 2021C2 #9351955

ALCATEL/ADIXEN/PFEIFFER 2021C2는 10-5 Torr 미만의 높은 진공 수준을 달성 할 수있는 고효율, 저소음 터보 분자 펌핑 장비입니다. 이 펌프는 반도체 웨이퍼 제작 및 박막 증착 (Thin-film deposition) 을 포함한 많은 산업 및 과학 프로세스에 이상적인 무유, 부식 내성 흐름을 생성하도록 설계되었습니다. 이 터보 분자 펌프는 420 와트의 고출력 입력과 400: 1의 압력 비율로 600 l/s의 최대 용량을 특징으로합니다. ADIXEN 2021C2는 브러쉬가없는 DC 모터로 구동되어 긴 서비스 수명을 보장합니다. 터보 펌프 (Turbo Pump) 는 정확한 동작 및 속도 제어를 제공하는 고급 전자 컨트롤 (Electronic Control) 을 장착하여 빠르고 안정적인 진공 수준을 제공합니다. 알카텔 2021C2 (ALCATEL 2021C2) 는 추가 지원 계층을 제공하여 챔버에 거주 시간을 늘리는 이중 베어링 시스템을 갖추고 있습니다. 이 장치는 또한 진동을 줄여 더 조용한 작동과 향상된 안정성을 허용합니다. 2021C2는 고성능 티타늄 로터 및 고정자 구조를 사용합니다. 이는 섬세한 박막 증착 (Thin-film deposition) 에서 심하게 코팅 된 반도체 웨이퍼 제조 프로세스에 이르기까지 광범위한 응용 분야에서 탁월한 성능을 제공합니다. 또한, 보다 효율적인 작동을 위해 다른 유형의 펌프 (예: 터보 분자 포어 펌프) 와 함께 사용할 수 있습니다. PFEIFFER 2021C2는 통합 포트 흐름 조절 제어 머신을 통해 수준 제어를 개선하도록 설계되었습니다. 이 도구는 내장된 피드백 (feedback) 메커니즘을 사용하여 정확한 제어를 위해 제어용 컴퓨터에 신호를 보냅니다. 이 제어 자산은 ALCATEL/ADIXEN/PFEIFFER 2021C2를 진공 코팅에서 원자력 현미경까지 다양한 산업 및 과학 프로세스에 적합하게 만듭니다. ADIXEN 2021C2에는 다양한 안전 및 모니터링 기능이 장착되어 있습니다. 여기에는 온도 모니터링, 단락 회로 보호 및 진동 모니터링이 포함됩니다. 또한 ALCATEL 2021C2는 편리한 플러그 앤 플레이 연결과 최소 부품을 통해 빠르고 쉽게 유지 관리할 수 있습니다. 2021C2는 광범위한 산업 및 과학 프로세스에 적합한 신뢰성, 내구성, 비용 효율적인 터보 분자 펌핑 모델입니다. 이 펌프는 오일 오염 또는 부식의 위험없이 높은 수준의 진공을 생성하는 한편, 정밀한 수준의 제어, 최적의 성능, 향상된 안전 (safety) 을 제공 할 수 있습니다.