판매용 중고 SEMICS Opus3 #9220173
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판매
ID: 9220173
웨이퍼 크기: 12"
빈티지: 2017
Prober, 12"
Linear stage system
Cassette map with sensor
Motorized 3 leg
VNC Support
5 Fixed tray
Specification:
Thickness: 300 µm - 2000 µm
Die size: 350 µm - 100,000 µm
Prober card handling:
Shape: 350Φ/480Φ/520Φ
Thickness: Maximum 50 mm
Prober unit:
Position accuracy:
X/Y: ± 1.0 µm, Z: ± 1 µm
Contact accuracy:
X/Y: ± 1.0 µm, Z: ± 1 µm
X/Y Probing area:
X: ± 175 mm
Y: ± 185 mm
Maximum speed: 500 mm/s
Z Axis:
Z Stroke: 40 mm
Contact setting range: 1-10 mm
Drive method: AC Servo motor
Accuracy: ± 1 µm
Maximum speed: 50 mm/s
Rigidity for needle force: 300 kg
Θ Axis:
Rotation stroke: ± 5.0°
Drive method: Stepping motor
Control resolution: 0.0001°
Chuck top:
Planarity: ≤ 10 µm at Ambient
Temperature range: Ambient ~ 150°C
Alignment method:
Image pattern matching
Optic auto-focus
Loader rotation axis:
Maximum rotation speed: 270°C /sec
Drive method: Stepping motor
Control resolution: 0.006°
Pre-aligmnent unit:
Maximum rotation speed: 360°/sec
Accuracy: X,Y ± 100 µm
Control resolution: 0.036° (R=150 mm, 95 µm)
Computer:
CPU: I5 Dual core 2400 3.0 GHz
HDD: 500 GB
Memory: 3 GB
System disk: USB
Monitor: Touch screen, 15"
OS: Window XP
2017 vintage.
SEMICS Opus3 은 프로세스 모니터링 및 제어를 위해 업계에서 널리 사용되는 다중 패라메트릭 프로세스 최적화 툴입니다. 대규모/소규모 작업에 모두 적합한 다목적 도구입니다. SEMICS OPUS 3는 제조 공정에 대한 통찰력을 얻고 잠재적 개선 영역을 식별하기 위해 통계 및 예측 분석을 모두 수행 할 수 있습니다. 원시 프로세스 데이터 (raw process data) 및 사후 프로세스 정보 (trend) 를 모니터링 및 수집하여 추세를 분석하고, 근본 원인을 파악하고, 프로세스 매개변수를 개선합니다. Opus3 는 고급 프로세스 모니터링 알고리즘을 사용하여 근본 원인 분석 (root cause analysis) 을 수행하고 프로세스 매개변수 (process parameters) 를 식별하여 제품의 품질 또는 프로세스 일관성 향상을 초래합니다. 사용자는 본 소프트웨어를 통해 프로세스 수익률, 제품 품질, 프로세스 일관성에 미치는 영향을 심층적으로 변경하고 모니터링할 수 있습니다. 또한 OPUS 3 은 운영 주기를 최적화하고 다운타임을 줄이는 데 도움이 되는 예방적인 유지 보수/운영 스케줄링 기능을 제공합니다. 또한, 이 소프트웨어는 기본적인 SPC (Statistical Process Control) 차트, 패라메트릭 분석, 기능 연구 및 프로세스 최적화를 돕는 예측 모델과 같은 통계 도구를 제공합니다. 또한 SEMICS Opus3 는 강력한 실시간 데이터 시각화 (Visualization) 및 보고 (Reporting) 툴을 제공하여 프로세스 성능과 잠재적인 개선 영역을 신속하게 확인할 수 있습니다. 이 툴을 사용하면 복잡한 추세를 파악, 감사, 분석하고, 프로세스 성능의 이상을 감지하고, 프로세스 최적화 기록 변경 사항을 자세히 설명하는 보고서를 작성할 수 있습니다. 또한 하드웨어/소프트웨어 인터페이스 방식의 I/O 신호 조절 기능, 신호 변환 기능, 제어 기능 등을 통해 효과적인 프로세스 관리를 수행할 수 있습니다 (영문). 따라서 직관적인 GUI (Graphical User Interface) 를 사용하여 복잡한 장비 작업을 제어하고 모니터링할 수 있습니다. 또한, 소프트웨어는 다양한 통신 프로토콜을 지원하여 안전한 데이터 수집 및 시스템 간 공동 작업을 용이하게 합니다. 전반적으로 SEMICS OPUS 3은 다양한 고급 기능을 갖춘 강력하고 다양한 프로세스 최적화 도구입니다. 강력한 실시간 분석 툴을 제공하여 프로세스 매개변수를 파악하고 개선하고, 강력한 모니터링/제어 기능을 통해 다운타임을 최소화하고, 운영 주기 (production cycle) 를 최적화할 수 있습니다. 또한, 광범위한 인터페이스 및 통신 프로토콜 (interfacing and communication protocol) 을 통해 소프트웨어를 광범위한 산업에 적합합니다.
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