판매용 중고 SEMICS Opus II #293626462

SEMICS Opus II는 반도체 웨이퍼 프로세스 모니터링 및 제어를 위한 차세대 프로파일러입니다. 이 시스템은 WAFER (Automated Wafer Process Control) 기능을 실시간으로 사용할 수 있도록 설계되었으며, 사용이 간편한 인터페이스를 통해 빠르고 효율적으로 프로세스를 모니터링할 수 있습니다. Opus II는 32 비트 CPU, 실시간 운영 체제 커널 및 FPGA 엔진을 사용하여 단일 장치에서 여러 데이터 획득 작업을 처리합니다. 이를 통해 기본 압력, 누출, 열전대 (thermocouple leg), 온도 및 유량 (flow rate) 과 같은 다양한 측정 지점에서 여러 비트 데이터 스트림을 동시에 획득하고 처리할 수 있습니다. SEMICS Opus II는 또한 고급 데이터 로깅 기능을 제공하여 원시 데이터 및 파생 프로세스의 "프로파일 (profiles)" 을 모두 저장하여 향후 검토할 수 있습니다. 또한, 프로파일러는 최대 2개의 개별 프로파일을 동시에 검토할 수 있는 정교한 그래픽 디스플레이를 제공합니다. 이 디스플레이는 또한 조정 가능한 확장 기능을 제공하여 프로세스 가시성을 높이고 문제를 쉽게 해결할 수 있습니다. 또한 Opus II 는 표준 직렬 및 USB 접속을 비롯하여 다양한 데이터 통신 옵션을 제공하며, 전용 또는 옵션 (Ethernet) 기반 링크를 제공합니다. 이것은 프로파일러가 다른 고급 머신 컴포넌트 (advanced machine component) 및 외부 시스템 (external system) 과 직접 상호 작용할 수 있도록 함으로써 공동 작업의 추가 길을 열어줍니다. SEMICS Opus II는 닫힌 루프 제어, 온/오프 제어, PID 제어, 사용자 정의 알고리즘과 같은 다양한 프로세스 제어 요소를 지원합니다. 즉, 프로세스를 세밀하게 조정할 때 유연성이 향상되고, 수동 튜닝 및 조정 (manual tuning and adjustment) 의 필요성을 줄일 수 있습니다. 소프트웨어 측면에서, Opus II는 구성 모니터링, 진단 및 유지 관리를 위해 통합 도구 모음을 사용합니다. 이 소프트웨어 제품군에는 온라인 스크립팅 (scripting) 기능이 포함되어 있어 필요에 따라 시스템을 쉽게 구성하고 사용자 정의 (custom) 기본 제공 규칙을 추가할 수 있습니다. 또한, 프로파일러는 자동화된 프로세스 사이클 최적화 기능을 제공하여, 보다 능률적이고 일관된 프로세스 운영을 가능하게 합니다. 전체적으로 SEMICS Opus II는 강력하고 다양한 기능의 프로파일러로, 사용자에게 강력한 데이터 수집, 프로세스 모니터링, 프로세스 제어 기능을 제공합니다. 이를 통해 Opus II는 기본 웨이퍼 프로파일링에서 고급 프로세스 관리까지 다양한 반도체 프로세스 애플리케이션에 이상적입니다.