판매용 중고 HUETTINGER TruPlasma RF 1003 #293642785

HUETTINGER TruPlasma RF 1003은 산업 플라즈마 어플리케이션을 위해 특별히 설계된 고성능 전원 공급 장치입니다. 이 전원 공급 장치 (Power Supply) 는 다양한 플라즈마 (Plasma) 프로세스를 제공하여 사용자가 특정 요구 사항에 가장 적합한 설정을 선택하고 조정할 수 있도록 합니다. RF 1003은 저압 플라즈마 에칭 (etching in deep trench) 에서부터 표면 기능화를 위한 고압 에칭 (etching) 에 이르기까지 다양한 응용 분야를 위한 안정적이고 경제적인 솔루션입니다. 각각 최대 4,000 A의 전류와 최대 전압 50 V의 3 개의 독립적 인 출력으로 TruPlasma RF 1003은 까다로운 플라즈마 프로세스에 이상적입니다. 3 개의 출력은 필드 또는 공장에서 동기화되어 완벽한 위상각 (phase angle) 설정으로 결과를 최적화할 수 있습니다. RF 1003의 초저 인덕턴스 (Ultra-Low Inductance) 디자인은 높은 출력 전류 밀도와 함께 고속 플라즈마 에칭에 적합합니다. HUETTINGER TruPlasma RF 1003에는 전원 공급 장치 제어 및 모니터링을 위한 고해상도 터치 스크린 인터페이스가 장착되어 있습니다. 정확한 프로세스 설정 및 조정을 위해 사용자는 [사전 설정] 을 선택하거나 [설정] 을 수동으로 조정할 수 있습니다. 사용자는 즐겨찾기 (favorite) 로 최대 500개의 설정을 저장할 수 있으며, 이를 통해 최적화된 프로세스 매개변수에 쉽게 액세스할 수 있습니다. 또한, RF 1003 은 전원 공급 장치의 실시간 상태를 모니터링하는 광범위한 모니터링 시스템을 갖추고 있습니다. 여기에는 입력 전압, 전류, 주파수, 온도, 출력 전압 및 전류 및 기타 설정에 대한 정보가 포함됩니다. 과전류 (overcomrent) 및 과도 (overtemperature) 보호 기능을 갖춘 RF 1003은 안전하고 안정적인 운영을 보장합니다. 견고하고 사용하기 쉬운 디자인 덕분에 TruPlasma RF 1003은 산업 플라즈마 처리 어플리케이션에 이상적인 선택입니다. 즉, 고성능 (HPS) 기능과 포괄적인 모니터링 시스템을 통해 최적의 프로세스 결과에 필요한 정확한 설정을 선택하고 조정할 수 있습니다.