판매용 중고 SEMCO Horizontal LPCVD Furnace #293814746

SEMCO Horizontal LPCVD (Low Pressure Chemical Vapor Deposition) 퍼니스는 화학 증기 증착 기술을 사용하여 기판에 박막 증착을 위해 설계된 최첨단 열 처리 장비입니다. 이 고급 퍼니스 (Advanced Fornace) 는 수평 처리 기술을 사용하여 다양한 기판에 걸쳐 효율적이고 균일 한 필름 증착을 허용합니다. 주요 특징: 1. 수평 처리: SEMCO Horizontal LPCVD Furnace의 특징은 수평 처리 구성입니다. 기존의 수직 용광로와 달리, 수평 디자인은 향상된 가스 흐름 역학, 더 나은 온도 균일성, 향상된 프로세스 제어 등 여러 가지 장점을 제공합니다. 이 디자인은 넓은 기판 영역에 대해 일관된 필름 품질과 두께 균일성을 제공합니다. 2. LPCVD 기술 (LPCVD Technology): 퍼니스는 LPCVD 기술, 즉 저압에서 작동하는 화학 증기 증착을 사용하여 고품질 박막 형성을 촉진합니다. LPCVD는 이산화규소, 질화규소, 폴리 실리콘 및 반도체 및 광전자 응용 분야에 일반적으로 사용되는 다른 화합물을 포함하여 다양한 물질을 증착시키는 데 적합합니다. 3. 정확한 온도 조절: 수평 LPCVD 퍼니스 (Horizontal LPCVD Furnace) 에는 기판의 정확하고 균일 한 가열을 보장하는 고급 온도 제어 시스템이 있습니다. 웨이퍼 표면의 온도 균일성은 일관된 필름 특성을 달성하고 결함을 최소화하는 데 중요합니다. 용광로에는 여러 가열 영역 (hating zone) 과 열 센서 (thermal sensor) 가 장착되어 있어 증착 과정 전반에 걸쳐 온도 프로파일을 모니터링하고 제어합니다. 4. 가스 전달 시스템 (Gas Delivery System): 퍼니스에는 전구체 가스의 유량을 반응 챔버로 정확하게 제어하는 정교한 가스 전달 장치가 장착되어 있습니다. 이 기계는 정확한 화학량 측정 (stoichiometry control) 및 증착 매개변수 최적화를 가능하게하여 필름 품질과 재생성을 향상시킵니다. 가스 배달 도구에는 가스 누출을 예방하고 운영자 안전을 보장하기위한 안전 기능도 포함되어 있습니다 (영문). 5. 다중 프로세스 기능: SEMCO Horizontal LPCVD Furnace는 광범위한 증착 프로세스 및 재료를 지원하는 다용도 플랫폼입니다. 사용자는 다양한 전구체 가스, 증착 온도, 공정 레시피 사이를 쉽게 전환하여 다양한 필름 요구사항을 수용 할 수 있습니다. 이러한 유연성으로 인해 퍼니스는 연구개발 (R&D) 과 대용량 생산 애플리케이션에 적합합니다. 6. 사용자 친화적 인터페이스 (User-Friendly Interface): 용광로에는 직관적인 배치 제어 및 모니터링 기능을 제공하는 사용자 친화적 인 인터페이스가 장착되어 있습니다. 운영자는 배치 레시피 (deposition recipe) 를 설정하고, 프로세스 매개변수를 실시간으로 모니터링하며, 그래픽 사용자 인터페이스를 통해 문제를 해결할 수 있습니다. 이 자산은 또한 프로세스 최적화 및 품질 제어를 위한 데이터 로깅 및 보고 기능을 제공합니다. 응용 프로그램: Horizontal LPCVD Furnace는 반도체 업계에서 일반적으로 집적 회로 제작을 위해 실리콘 웨이퍼에 박막 증착에 사용됩니다. 또한 태양 전지, LED, MEMS 장치 및 정밀한 박막 코팅이 필요한 다른 전자 부품의 생산에 사용됩니다. 연구소와 학술기관은 새로운 재료와 공정을 탐구하는 용광로의 유연성 (Flexibility) 과 신뢰성 (안정성) 을 활용합니다. 전체적으로 SEMCO Horizontal LPCVD Furnace는 수평 처리 설계, LPCVD 기술, 정확한 온도 조절, 다용도 가스 전달 모델, 사용자 친화적 인터페이스를 통해 박막 증착을 위한 강력하고 효율적인 솔루션을 제공합니다. 고품질 박막 코팅 (Thin Film Coating) 을 필요로 하는 다양한 산업 및 연구 응용프로그램에 적합한 툴입니다.