판매용 중고 XEI SCIENTIFIC Evactron 10 #9282963

XEI SCIENTIFIC Evactron 10은 특수 응용 프로그램을위한 다용도 정밀 웨이퍼 처리 장비입니다. 고급 전자 빔 플라즈마 구동 청소 기술을 사용하여 초청결 및 입자가 없는 웨이퍼 표면을 남깁니다. 최대 200mm 직경의 생산 용량으로, 이 효율적인 시스템은 웨이퍼 클리닝 성능을 최대한으로 제공합니다. Evactron 10은 강력한 전자 빔 소스를 사용하여 일련의 2 단계 필터를 통과하는 반응성이 높은 이온화 된 아르곤 입자를 생성하여 건조, 플라즈마 기반 청소 공정을 생성합니다. 전자 빔에 노출 될 때, 입자는 물리적 접촉없이 웨이퍼 표면에서 오염을 침투 및 제거하는 클리닝 제로서 작용하는 아르곤 이온 클러스터 (argon ion cluster) 와 비 이온 입자 (non-ionic particulates) 의 하전 혼합물을 형성한다. 전형적인 오염 물질에는 산화물, 질화물, 탄화물 및 광저항 잔기가 포함됩니다. XEI SCIENTIFIC Evactron 10은 쉬운 작동과 간단한 유지 관리를 제공합니다. 사용자 친화적인 인터페이스를 통해 운영 매개변수 (Operating Parameter) 를 신속하게 설정할 수 있으며, 이 장치는 유지 보수 다운타임을 최소화할 수 있도록 설계되었습니다. 다양한 챔버 (Chamber), 노즐 (Nozzle), 소스 (Source) 조합으로 구성할 수 있으며, 사용자가 애플리케이션을 사용하여 최적의 성능을 위해 시스템을 사용자 정의할 수 있습니다. 표준 웨이퍼 클리닝 외에도, Evactron 10은 웨이퍼 텍스처링 및 에칭과 같은 추가 프로세스 단계에 사용될 수 있습니다. 빠른 속도와 작은 설치 공간은 다양한 웨이퍼 처리 (wafer processing) 작업에 이상적인 선택입니다. XEI SCIENTIFIC Evactron 10 도구는 안정성이 뛰어나며, 현재의 안전 표준 및 청정실 호환성을 준수하도록 제작되었습니다. 균일하고 결함이 없는 결과에 대한 대용량 생산 요구 사항을 충족하도록 설계되었습니다. XEI SCIENTIFIC의 Evactron 10은 첨단 기술, 견고한 구성, 비용 효율적인 설계를 통해 전문 청소 어플리케이션에 이상적인 선택입니다.