판매용 중고 SII NANO TECHNOLOGY X-Vision 200TB #293824625
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ID: 293824625
빈티지: 2008
FIB-SEM System
Power Requirement: 200-230V, 50/60HZ
GALLIUM SMI3000 ion source
(3) VARIAN Ion pumps
THERMO ELECTRON ULTRADRY Silicon drift detector, P/N: 8827A-3UUS-SN
MATSUSADA HEOS-828B-SD HV Power supply
BOC EDWARDS STP-iX455 Chamber turbopump
PFEIFFER Loadlock turbopump
IOS Unit, P/N: 1014-5002
RAITH BB-8KV Beam blank controller
Control cabinet
ANELVA PIC-050A-NP Ion pump controller
BOC EDWARDS Pump controller
PFEIFFER DCU Pump controller
Ar control unit, P/N: 1015-5017
FT200 Stage controller, P/N: 1208-5003
PDU, P/N: 1207-5000
1ea 4chMGS II Gas control cabinet
Control console
Maintenance panel
Control PB rack, P/N: 1012-5027
Vacuum power unit, P/N:1208-5001
Stage monitor
SEM Scan module, P/N: 1207-5110
(2) Transformer boxes, P/N: 1208-5000
THERMO SCIENTIFIC NORAN SYSTEM 7 Microanalysis controller, P/N: 470-3597
Spare RAITH Beam blank controller
THERMO ELECTRON C10017 Silicon drift detector controller
JANDEL RM2 4-point test controller
(3) PCs
No HDDs
2008 vintage.
SII NANO TECHNOLOGY X-Vision 200TB는 반도체 제조에서 웨이퍼 처리 능력을 크게 향상시키기 위해 설계된 최첨단 기타 웨이퍼 처리 장비입니다. 이 고급 시스템은 최첨단 나노 (nano) 기술을 통합하여 반도체 웨이퍼 처리 시 탁월한 수준의 정밀도, 효율성, 확장성을 제공합니다. X-Vision 200TB 장치의 핵심에는 혁신적인 나노 기술 (nano-technology) 이 있으며, 이는 나노 미터 규모에서 초고해상도 이미징과 웨이퍼 표면의 정확한 조작을 가능하게합니다. 이 정밀도 는 "트랜지스터 '나" 메모리' 세포 와 같은 현대 반도체 장치 의 엄격 한 차원 요구 조건 을 달성 하는 데 필수적 이다. 이 기계는 전자 현미경, 원자력 현미경을 포함한 고급 영상 기술을 사용하여 나노 스케일 정밀도로 웨이퍼 표면을 정확하게 검사하고 제어합니다. SII NANO TECHNOLOGY X-Vision 200TB 툴의 주요 기능에는 200TB (대용량 프로세싱 용량) 가 포함되어 있어 대규모 반도체 생산의 요구를 충족하는 대용량 웨이퍼 프로세싱이 가능합니다. 에셋에는 여러 개의 처리 모듈 (processing module) 이 장착되어 있으며, 각 모듈은 다양한 웨이퍼 크기와 재료를 처리 할 수 있으며, 다양한 제조 공정에 매우 다양하고 적응할 수 있습니다. X-Vision 200TB 모델은 Precision Etching, Deposition, Cleaning, Inspection 등 다양한 처리 기능을 제공하며, 모두 단일 플랫폼에 통합되어 효율성과 처리량을 극대화합니다. 이 장비의 고급 자동화 (Advanced Automation) 기능을 사용하면 기존 제조 워크플로우와 원활하게 통합하여 처리 시간을 줄이고 전반적인 수익률을 향상시킬 수 있습니다. SII NANO TECHNOLOGY X-Vision 200TB 시스템의 주요 장점 중 하나는 전체 웨이퍼 표면에 걸쳐 탁월한 정밀도와 균일성을 갖춘 다중 계층 처리 기능입니다. 이러한 제어 수준은 고급 반도체 어플리케이션에서 최적의 장치 성능과 안정성을 달성하는 데 매우 중요합니다. 또한 X-Vision 200TB 장치에는 고급 프로세스 모니터링 및 제어 알고리즘이 포함되어 있어 여러 처리 실행에서 일관되고 반복 가능한 결과를 얻을 수 있습니다. 실시간 피드백 (feedback) 메커니즘은 처리 매개변수를 지속적으로 모니터링하고 필요한 조정을 통해 프로세스 성능 및 생산량을 최적화합니다. 이 기계는 또한 확장성 (Scalability) 을 고려하여 설계되었으며, 진화하는 제조 요구 사항을 충족하기 위해 추가 처리 모듈을 쉽게 통합 할 수 있습니다. 이러한 유연성을 통해 반도체 제조업체는 기존 운영 라인의 업무 중단 없이 처리 능력을 확장할 수 있습니다 (영문). 결론적으로 SII NANO TECHNOLOGY X-Vision 200TB는 다른 웨이퍼 처리 기술을 크게 발전시켜 반도체 제조 어플리케이션을 위한 탁월한 정밀도, 효율성, 확장성을 제공합니다. X-Vision 200TB 툴은 혁신적인 나노 기술, 높은 처리 능력, 종합적인 처리 능력을 바탕으로 반도체 업계의 웨이퍼 (wafer) 처리를 혁신하고 차세대 반도체 장치 개발을 추진할 수 있습니다.
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