판매용 중고 SATISLOH ART Blocker A #293672033

SATISLOH ART Blocker A는 반도체 용 포토 마스크, 레티클 및 기타 장치 구성 요소 제조에 사용되는 고급 다른 웨이퍼 처리 장비입니다. 자동 음극 난방 단계를 갖춘 이 시스템은 마스크 재편성, 패턴 재확보, 위상 시프트 레티클 수정 (phase shift reticle correction), 레이저 수리 (laser repair) 등 다양한 마스크 및 레티클 제작 프로세스를 수행 할 수 있습니다. 이 장치는 마스크 및 레티클의 정확한 재정렬을 위해 고급 열 이미징 머신을 사용합니다. 이 도구를 사용하면 복잡한 광학 요소의 열 확장 (thermal expansion) 을 모니터와 매핑할 수 있으므로 웨이퍼가 항상 정확하게 배치됩니다. 아트블로커 A (ART Blocker A) 에는 고밀도 포토마스크 수리를 위한 고성능 레이저 수선 자산이 장착되어 있으며, 정밀도 정확도와 작업 시간이 최소화되어 있습니다. 이 모델에는 고급형 레이저 스팟 (Laser spot) 정렬 장비가 포함되어 있어 손상의 정확한 위치와 수리에 필요한 정확한 위치를 정확히 파악할 수 있습니다. 레이저 스팟 정렬 시스템 (Laser spot alignment system) 은 빔당 10ms 미만의 제거 시간으로 정확한 레이저 수리를 제공 할 수 있습니다. 이 장치에는 고급 클리닝 머신 (advanced cleaning machine) 이 포함되어 있어 처리 과정에서 웨이퍼가 깨끗하게 유지되도록 합니다. 이 "클리닝 '도구 는 먼지 의 양 을 줄이고" 웨이퍼' 에 쌓을 수 있는 입자 오염 물질 을 줄이기 위해 설계 되었다. 에셋은 또한 웨이퍼 표면에 필름을 배치하는 고급 증착 모델 (advanced deposition model) 을 포함합니다. 이 증착 장치 는 밀봉 된 진공 과정 을 이용 하여 "웨이퍼 '에 얇고 균일 한" 필름' 을 바른다. SATISLOH ART Blocker A에는 다양한 복잡한 포토 마스크 및 웨이퍼 작업을 수행하기 위해 고급 리소그래피 시스템도 장착되어 있습니다. 리소그래피 장치 (lithography unit) 는 하나의 노출 내에서 다양한 photomask 및 컴포넌트의 치수를 정확하게 식별 할 수있는 고급 광전기를 사용합니다. 이 도구는 또한 웨이퍼 (wafer) 의 표면에 패턴을 인쇄할 수 있으며, 빠르고 효율적인 결과로 복잡하고 정확한 패턴을 만들 수 있습니다. ART Blocker A는 다른 웨이퍼 처리 및 마스크 제작에 사용할 수있는 가장 고급 시스템 중 하나입니다. 이 자산은 고급 자동화 기능을 활용하여 마스크 (Mask) 및 디바이스 구성 (Device Fabrication) 기술을 위한 통합적이고 포괄적인 솔루션을 제공합니다. 이 모델은 다양한 기능과 옵션을 제공하여, 생산과정을 최적화하고, 고품질 포토마스크 (photomask) 와 레티클 (reticle) 을 생성하는 데 필요한 시간과 투자를 줄일 수 있습니다.