판매용 중고 KOLB PS09 HY #293642591

ID: 293642591
빈티지: 2006
Stencil cleaner Ambient temperature: 20°C / 50°C Noise: ≤74 dB Cleaning tank: 75 L (Approx) Rinse water tank: 75 L (Approx) Exhaust connection: Φ160 mm, 200 to 300 m³/hour Option: Compressed air: >7 bar - 8 bar (With air jet dryer) Water supply: 3/8" Hose connection, 14 mm Water supply / DI: 3/8" Hose connection, 25 mm Rinse water drain: 3/4" Hose connection Power supply: 400 VAC, 16 A, 3-Phase, 50/60 Hz Power consumption: 4.2 - 9 kW 2006 vintage.
KOLB PS09 HY는 반도체 웨이퍼 처리를 위해 설계된 포괄적 인 '기타 웨이퍼 처리' 장비입니다. 다중 웨이퍼 (Wafer) 구성 프로세스의 시간과 비용을 절감하고, 반복 가능하고, 일관된 결과를 얻을 수 있도록 설계되었습니다. 이 시스템은 자동 작동을위한 로봇 암, 웨이퍼 로딩을위한 호퍼 (hopper for wafer loading), 고급 웨이퍼 처리를위한 모듈 식 하위 구성 실, 선택적 레이어 제거를위한 고정밀 밀링 장치 등 다양한 웨이퍼 처리 및 프로세싱을위한 다양한 구성 요소로 구성됩니다. 이 조합을 통해 배치 에칭 (batch etching) 에서 마이크로 머신 (micromachining), 심지어 3D 인쇄 (3D printing) 에 이르기까지 다양한 처리를 할 수 있습니다. PS09 HY는 같은 웨이퍼에서 여러 가지 처리를 수행 할 수 있으므로, 화합물 반도체 웨이퍼 (compound semiconductor wafer) 의 생산에 특히 유용합니다. 여기에는 아닐링 (annealing) 및 고온 확산 (high-tempering diffusion) 과 같은 열 처리, 포토 esist, 필름 생성 또는 금속 및 폴리머의 증착을 포함한 후처리가 포함됩니다. 또한 고급 모니터링 (Advanced Monitoring), 제어 (Control) 및 보고 (Reporting) 기능을 제공합니다. 이 기능은 모두 사용자 친화적 인터페이스를 통해 관리되며 사용자의 요구를 완벽하게 충족할 수 있습니다. 통합 데이터 분석 (Integrated Data Analysis) 및 시각화 (Visualization) 기능을 통해 프로세스의 모든 단계에 대한 자세한 정보를 수집하여 프로세스 매개변수를 보다 효율적으로 최적화할 수 있습니다. KOLB PS09 HY 는 효율적인 웨이퍼 (Wafer) 처리 툴로서, 고객에게 탁월한 가치를 제공하며 개별 요구에 맞게 조정할 수 있습니다. 유연 설계 (Flexible Design) 와 고급 (Advanced) 기능은 다양한 처리를 수행할 수 있다는 것을 의미하며, 반복 가능하고 안정적인 결과를 얻어 반도체 제조업체에 이상적인 옵션입니다.
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