판매용 중고 GREATSENSE GS-AIR-30 #293670976

GREATSENSE GS-AIR-30은 광범위한 어플리케이션을 위해 설계된 고급 플라즈마 기반 웨이퍼 처리 장비입니다. 독특한 디자인은 독특한 유도 결합 무선 주파수 (RF) 소스 모듈과 결합 된 고진공 챔버 (high-vacuum chamber) 와 단일 플랫폼에서 다른 에치/증착 프로세스를 통합하기위한 고급 전자 사이클로트론 공명 (ECR) 소스를 특징으로합니다. 이 시스템은 반도체 및 MEMS 기술을 위한 고품질 처리 솔루션을 제공합니다. GS-AIR-30 장치는 단일 무선 주파수 (RF) 소스를 갖는 큰 동적 범위의 플라즈마 매개변수로 고속 저온 (< 300 ° C) 처리를 제공 할 수 있습니다. 수명이 긴 다양한 기질에 걸쳐 우수한 기질 온도 균일성 (substrate temperity) 과 높은 처리 균일성 (processing unifority) 을 가지고 있습니다. 이를 통해 사용자는 더 복잡한 3D 응용 프로그램에서 더 나은 수율을 얻을 수 있습니다. 고진공 챔버 (high-vacuum chamber) 는 쉽게 청소하고 유지 관리할 수 있도록 설계되었으며, 실리콘 웨이퍼 (silicon wafer) 와 같은 기판을 최대 직경 300mm 크기로 처리 할 수 있습니다. 프로세스 가스는 양극성 또는 단일 주파수 RF (bipolar or single frequency RF) 로 제어 된 후 ECR 파를 사용하여 챔버에서 확산 될 수있다. RF 소스는 저주파 (50kHz) 에서 고주파 (10MHz) 에 이르는 광범위한 RF 주파수를 생성 할 수 있습니다. 이 시스템은 단일 (single) 및 다중 챔버 (multi-chamber) 작동을 지원할 수 있으며 특정 고객 요구를 충족하는 여러 챔버 옵션을 제공합니다. 공구 제어 소프트웨어는 자동 웨이퍼 전송, 자동 웨이퍼 로드/언로드, 온도 제어, 백사이드 냉각, 웨이퍼 바이 웨이퍼 프로세스 모니터링 등 사용자 친화적인 작동을 보장하는 여러 가지 기능을 제공합니다. 에셋에는 필름 증착 및 에칭 프로세스 동안 플라즈마 매개변수를 추가로 모니터링하기위한 특허를받은 ECR 모니터링 소프트웨어뿐만 아니라 RF 쉴드 (옵션) 도 포함되어 있습니다. GREATSENSE GS-AIR-30은 NFPA-70E (NRTL (Nationally Recognated Testing Laboratory)), ANSI/UL-1300 (Underwriters Laboratories Inc.) 및 기타 표준을 포함하여 가장 주요 국제 안전 표준에 의해 인증됩니다. 건식 에칭, 스트리핑, 플라즈마 강화 화학 증기 증착 (PECVD), 원자층 증착 (ALD), 스퍼터링 및 이온 이식 기판을 포함한 다양한 프로세스에 사용할 수 있습니다. GS-AIR-30 은 반도체/MEMS 업계의 다양한 애플리케이션에 적합한, 광범위한 애플리케이션과 높은 자동화 기능을 갖춘 경제적인 솔루션으로,