판매용 중고 EVANS E-DOC-SD-1SR-00YX-D1 #293649932

EVANS E-DOC-SD-1SR-00YX-D1 웨이퍼 처리 장비는 반도체 기판을위한 다용도 제조 공정을 위해 설계된 매우 다용도이지만 컴팩트 한 장치입니다. 이 시스템은 표면 준비, 입자 코팅, 스핀 코팅, 에칭, 저항 스트리핑 등 다양한 프로세스를 수행 할 수 있습니다. 메인프레임 (Mainframe) 과 배치 프로세서 (Batch Processor) 라는 두 가지 주요 구성 요소가 하나의 유닛에 통합되어 능률적인 워크플로를 제공합니다. 메인프레임 (Mainframe) 은 다양한 매개변수와 설정을 갖춘 고정밀 (high-precision) 닫힌 루프 제어 장치 (closed-loop control unit) 를 통해 웨이퍼 처리 단계를 세밀하게 조정하고 사용자 정의할 수 있습니다. 또한 인터랙티브 휴먼 머신 인터페이스 (interactive human-machine interface) 를 통해 운영자가 프로세스 매개변수를 모니터링하고 조정할 수 있습니다. 또한, 기계에는 온도 측정 및 저항 온도 탐지기 (resistor-temperature detector) 가 장착되어 있으므로 온도 범위를 결정할 수 있으며, 반복 가능하고 일관된 품질 제어가 가능합니다. 배치 프로세서는 실행 시간 (run time) 과 속도 (speed), 가열 프로파일 (heating profile), 프로세스 시간 (process time) 등 여러 웨이퍼 매개변수를 프로그래밍할 수 있습니다. 따라서 사용자가 품질 기판을 빠르고 정확하게 재현할 수 있습니다. 또한, 이 툴은 운영 데이터의 아카이브 및 레코드 저장소 역할을 하는 온보드 스토리지 (On Board Storage) 로, 실시간 추적 가능성과 결과 확인을 허용합니다. E-DOC-SD-1SR-00YX-D1 은 강력한 웨이퍼 (wafer) 처리 자산으로, 빠른 프로세스 주기와 효율적인 수율을 가능하게 하며, 소규모 및 대규모 운영 실행에 적합합니다. 다재다능성은 웨이퍼 범핑 (Wafer Bumping) 과 재분배 (Photolithography) 공정에 이르기까지 다양한 반도체 응용 분야에 이상적입니다. 이 모델은 광범위한 매개변수 (parameter) 와 설정 (settings) 과 고정밀 제어 장비 덕분에 연구 개발에 이상적입니다.