판매용 중고 BRANSON 1510-MTH #9072707

BRANSON 1510-MTH는 복잡한 실험실 규모의 사진 분석 프로세스를 위해 설계된 웨이퍼 처리 장비입니다. 이 웨이퍼 프로세서 (wafer processor) 는 분광형 (spectrally-selective) irradiance 필터를 통해 사용자가 웨이퍼를 비추는 빛의 스펙트럼을 세밀하게 조정할 수 있도록 완벽하게 제어할 수 있도록 합니다. 1510-MTH에는 반사 방지 판도 포함되어 있으며, 이는 작은 사진 구조를 만드는 데 이상적입니다. 또한, 이 시스템에는 원격 중심 및 아나모픽 (anamorphic optics) 장치가 장착되어 있어 매우 높은 해상도의 이미징이 가능합니다. BRANSON 1510-MTH 머신은 광범위한 사진 분석 프로세스 및 응용 프로그램에 사용됩니다. 여기에는 photoresist 마스킹, 접촉 인쇄, 리프트 오프 프로세스, 퇴적 된 금속 패턴, 에칭, 도금 및 웨이퍼 결합이 포함됩니다. 유리, 실리콘, 석영 및 기타 이국적인 재료 (예: 사파이어, 질화 갈륨, 금속 필름) 를 포함하여 1510-MTH를 사용하여 여러 가지 유형의 기질을 처리 할 수 있습니다. BRANSON 1510-MTH 도구는 고정밀 사진 해설법 프로세스를 가능하게하는 여러 가지 독특한 기능을 자랑합니다. 구성 요소의 정밀 등록 및 정렬을위한 통합 비전 에셋 (integrated vision asset) 과 정확하고 일관된 기판 난방 및 냉각을위한 프로그래밍 가능한 온도 조절 단계 (programmable temperature-controlled stage) 가 있습니다. 이 단계는 열 처리를 위한 온도 프로파일 (temperature profile for thermal processing) 을 포함하여 다양한 응용 프로그램 요구 사항에 맞게 구성할 수 있습니다. 이 모델에는 웨이퍼의 정밀 위치를위한 정밀 X-Y 단계도 있습니다. 1510-MTH 장비는 샘플의 품질에 대한 정확한 피드백을 제공하도록 설계되었습니다. 광전자공정 (Photolithography Process) 의 상태를 모니터링하는 비전 (Vision) 시스템과 기판 성능을 분석하는 사진필름 (Photo-film) 분석 패키지가 있다. 통합 제어 장치 (Integrated Control Unit) 를 사용하면 이미징 프로세스의 속도와 정확성을 정확하게 제어할 수 있으며, 편차를 자동으로 보완할 수 있습니다. 매우 정확하고 정확한 BRANSON 1510-MTH 머신은 또한 빠른 속도와 처리량을 제공합니다. 최대 500 mm/sec 속도로 기판을 스캔할 수 있으며, 여러 웨이퍼 (wafer) 의 이미지를 한 번에 프로그래밍하고 모니터링할 수 있는 자동화된 프로세스 제어 (process control) 툴을 갖추고 있습니다. 또한, 이 자산은 주요 기능 및 설정에 쉽게 액세스 할 수있는 직관적인 사용자 인터페이스 (user interface) 를 제공합니다. 전체적으로 1510-MTH 모델은 복잡한 실험실 규모의 사진 분석 프로세스에 이상적입니다. 파퍼 (wafer) 를 비추는 빛의 스펙트럼을 정확하게 제어 할 수 있으며, 다양한 구성 요소와 기능 (features) 을 갖추고 있어 다양한 photolithography 응용 프로그램에 이상적입니다. 이 장비의 빠른 스캐닝 속도 (fast scanning speed) 와 자동화된 프로세스 제어 (automated process control) 는 사용자가 높은 처리량을 달성하는 데 도움이 되는 반면, 직관적인 사용자 인터페이스는 사용 편이성을 보장합니다.