판매용 중고 AQUEOUS TECH Trident XLD DUO #9296611

AQUEOUS TECH Trident XLD DUO는 컴파운드 반도체 웨이퍼 및 MEMS 장치를 정확하고 빠르게 처리하기위한 최첨단 "기타 웨이퍼 처리" 장비입니다. Trident XLD DUO (Trident XLD DUO) 는 전체 제작 프로세스에 대한 탁월한 제어 기능을 제공하며 일관된 레이어 증착 및 장치 패턴화를 보장합니다. Trinity XLD Duo 시스템에는 멀티 챔버 공정 챔버, 배치 로드 언로드 장치 및 LDC (Laser-Directed Crystallization) 머신이 포함됩니다. 공정 챔버는 기판 온도, 진공, 압력 및 대기를 정확하게 제어 할 수 있습니다. 저항성 및 정전식 가열 시스템 (resistive and capacitive heating systems) 을 사용하여 기판 온도를 정확하게 조절하고 다양한 조건에서 반복적으로 작동합니다. 배치 로드 언로드 (Batch Load-Unload) 도구는 로봇 암을 사용하여 제작 중에 웨이퍼와 MEMS 장치를 빠르고 정확하게 로드하고 언로드합니다. 또한 독점 광 센서 자산 (Optical Sensor Asset) 을 사용하여 플랫폼에서 다양한 유형의 웨이퍼 및 MEMS 장치를 감지하여 매우 정확한 작동을 보장합니다. LDC 모델은 통합 레이저 장비 (integrated laser equipment) 를 사용하여 광범위한 온도에서 얇은 층을 정확하게 결정 할 수 있습니다. 결정화 (crystallization) 는 웨이퍼의 특정 부분을 대상으로 할 수 있으며, 복잡한 패턴을 빠르고 효율적인 방식으로 만들 수 있습니다. 또한 레이저 시스템을 통해 피드백 (feedback) 제어를 통해 여러 주기의 웨이퍼 프로세싱에서 일관된 결과를 얻을 수 있습니다. 프로세스 챔버 (Process Chamber) 의 환경 제어와 결합 된 레이저-방향 결정 (Laser-Directed Crystallization) 장치는 극도로 정확한 레이어 증착 및 패턴 형성을 가능하게합니다. AQUEOUS TECH Trident XLD DUO는 이전 시스템에 비해 사용 편의성이 향상되었으며, 직관적인 사용자 인터페이스와 자동화된 프로세스 제어 및 자동 장치 식별을 제공합니다. 이 기계는 또한 고급 기술과 적은 설치 공간으로 인해 TCO (소유 비용) 를 개선했습니다. 마지막으로, Trident XLD DUO는 안정적이고 반복 가능한 처리를 제공하여 사용자가 고품질 복합 반도체와 MEMS 장치를 빠르고 안정적으로 제작할 수 있도록 합니다.