판매용 중고 AGFA Palladio 30 #9223808

ID: 9223808
빈티지: 2004
CTP System Plate size: 635 x 754 mm Plate per hour: Up to 22 Auto loading Violet based Power: 220V, 3 Phase 2004 vintage.
AGFA 팔라디오 30 (Palladio 30) 은 비용 절감과 프로세스 효율성 향상에 사용되는 혁신적인 웨이퍼 처리 장비입니다. 첨단 기술을 활용하여 산업 규모의 반도체 및 MEMS 처리 어플리케이션에 가장 적합한 성능을 제공합니다. 독보적인 설계는 주기 시간을 줄이고, 폐기물을 줄이며, 제어된 웨이퍼 프로세스 성능을 향상시킵니다. 팔라디오 30 (Palladio 30) 의 최적화된 챔버 설계는 프로세스 레시피를 최적화하고 프로세스 로드 및 언로드 단계를 줄이기 위해 설계되었습니다. 특허를받은 챔버 (Chamber) 는 고급 온도 조절 시스템으로 제작되었으며, 열을 예열하고, 냉각시키고, 층 사이의 기판을 안정화시켜 열 분리 (run-off) 를 최소화하고 균일성을 향상시킵니다. 스테인리스 스틸 프레임은 가스 분포 누출을 줄임으로써 프로세스 환경을 제어하는 데 도움이됩니다. 또한, AGFA 팔라디오 30 (Palladio 30) 은 멀티 존 웨이퍼 (multi-zone wafer) 지원 장치를 사용하며, 레시피가 기판 플래튼에 가깝게 기판을 전달해야 할 때 흔들림을 줄이기 위해 설계되었습니다. Palladio 30은 프로세스 효과를 높이기 위해 고정밀 포지셔닝을 제공합니다. 통합 된 자동 로딩 및 모션 머신 (motion machine) 은 6 축 모션 플랫폼을 따라 기판의 질량을 동적으로 배치하여 복잡하고 복잡한 패턴을 쉽게 설정할 수 있습니다. 또한 IVS (Interactive Vision Tool) 는 척 (chuck) 또는 기판 플래튼과 웨이퍼 및 기판을 쉽게 정렬하고 배치하여 일관된 로딩 및 처리를 보장합니다. 게다가, 에셋에는 고해상도 웨이퍼 (wafer) 탐지기 (detector) 가 장착되어 있어, 웨이퍼의 주변 모서리를 감지하고 위치가 정확하지 않을 때 프로세스를 종료할 수 있습니다. 더 중요한 것은 AGFA Palladio 30이 레시피 개발 프로세스를 최적화하도록 설계되었습니다. '프로세스 모니터링 (real-time process monitoring)' 을 통해 불필요한 지연을 최소화하기 위해 필요에 따라 프로세스를 조정할 수 있습니다. 또한, 프로세스 챔버에 최대 12 가지 레시피를 쉽게 프로그래밍 할 수있는 소프트웨어 기능이 있으며, 나중에 사용할 수 있도록 저장하십시오. 전반적으로 Palladio 30은 안정적이고 고급 웨이퍼 처리 모델로, 산업 웨이퍼 프로세싱에 탁월한 성능을 제공합니다. 이 제품은 사이클 타임 (cycle-time) 을 줄이고, 폐기물을 줄이고, 프로세스 성능을 향상시켜, 산업 규모 생산에 가장 경제적인 솔루션이 될 수 있도록 설계되었습니다.
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