판매용 중고 VG SEMICON / OXFORD V100 #293615569

VG SEMICON/OXFORD V100은 주로 실리콘 또는 갈륨 비소와 같은 기질에서 반도체 재료의 박막 증착에 사용되는 분자 빔 에피 택시 (MBE) 장비입니다. 2 단계 소스 배열을 사용하며, 상단에는 고온 반응성 소스가, 하단에는 저온 소스가 있습니다. 주요 대피 챔버에서 성장 챔버가 확장되고, 진공 상태에서 ~ 3 × 10 ^ -7 torr의 압력에서 증착이 발생합니다. 이 시스템에는 분자 빔을 샘플 표면에 집중시키는 2 개의 반구 렌즈 (hemispheric lense) 와 반응원 및 성장 챔버 모두에 대한 가열/냉각 코일 (coil) 이 있습니다. OXFORD V100에는 압력 측정 장치, in-situ quartz crystal microbalance (QCM), 산소 getter machine, in-situ reflectometer 및 quartz crystal 온도계와 같은 프로세스 제어를 위해 많은 기기가 장착되어 있습니다. 인시 투 QCM (in-situ QCM) 은 얇은 필름의 질량 증착 속도와 조성을 측정하는 데 사용되며, 인시 투 반사계 (in-situ reflectometer) 는 표면 형태를 모니터링하는 데 사용됩니다. 산소 게터 도구 (oxygen getter tool) 는 증착 중 반도체 필름의 산화를 막기 위해 성장 챔버에서 낮은 산소 농도를 유지하는 데 사용될 수있다. 석영 결정 온도계는 반응원 (reactant source) 과 챔버 (chamber) 온도를 모두 모니터링하는 데 사용될 수 있습니다. VG SEMICON V100은 주로 MBE에 의해 실리콘, 갈륨 비소와 같은 반도체 재료의 필름 재배에 사용됩니다. 이러 한 "필름 '들 은 보통 매우 얇으며, 일반적 으로 두께 가 단지 몇 개 의 원자층 에 불과 하며," 필름' 의 적절 한 성장 을 보장 하기 위하여 성장 "파라미터 '를 매우 정확 하게 제어 해야 한다. V100은 또한 알루미늄 갈륨 비소, 갈륨 질화물, 산화 알루미늄과 같은 다른 물질의 필름 성장에 적합하다. 결론적으로, VG SEMICON/OXFORD V100은 반도체 및 기타 재료의 초박막 증착에 사용될 수있는 정교한 MBE 자산입니다. "고품질 필름 '의 성장에 필요한" 정밀 공정 제어 (process control)' 를 위한 다양한 장치를 갖추고 있다.