판매용 중고 VEECO Molecular Beam Epitaxy (MBE) system #293800242

ID: 293800242
UHV Cluster tool, 6" (4) Ports for E-Beam Atom source RHEED Materials: Li, Co, O, Si, Ni, Mn Sputters: LiPON, Pt, Ti, AlO, AlN, Al Chambers: Linear sputtering Pre-clean Storage Load lock.
VEECO MBE (Molecular Beam Epitaxy) 장비는 원자 정밀도를 가진 박막의 정확한 성장을 위해 재료 과학 및 반도체 연구 분야에 사용되는 최첨단 도구입니다. 이 고급 분자 빔 에피 택시 시스템 (Advanced molecular beam epitaxy system) 은 연구자들에게 원자 수준에서 두께, 조성 및 결정 구조에 대한 뛰어난 제어를 가진 박막 (thin film) 을 증착 할 수있는 능력을 제공한다. VEECO MBE 장치는 다양하고 정교한 플랫폼으로, 다양한 반도체 재료와 이종 구조의 성장을 가능하게 하며, 높은 수준의 정확성과 재현성을 제공합니다. VEECO MBE 머신의 핵심에는 여러 개의 발진 세포, 전자 빔 증발기 (electron beam evaporator) 및 다른 증착원이 장착 된 고진공 챔버 (high-vacuum chamber) 가 있으며, 가열 기판에 원자 또는 다른 원소의 분자를 공급하는 데 사용됩니다. 이 과정을 통해 잘 정의된 인터페이스와 제어된 레이어 단위 증가 (layer-by-layer growth) 로 박막을 생성할 수 있습니다. 박막의 증착율과 구성을 정확하게 제어 할 수있는 능력은 VEECO MBE 도구 (VEECO MBE Tool) 를 새로운 반도체 장치 및 나노 구조의 개발을위한 필수 불가결한 도구로 만듭니다. VEECO MBE 자산의 주요 기능 중 하나는 고급 현장 모니터링 및 제어 기능입니다. 이 모델에는 반사 고 에너지 전자 회절 (RHEED), 사중극 질량 분석법, 분광 타원법 (spectroscopic ellipsometry) 과 같은 다양한 진단 도구가 장착되어 있어 증착 필름의 성장 과정 및 특성화에 대한 실시간 모니터링이 가능합니다. 이 현장 모니터링 (in-situ monitoring) 기능을 통해 연구자들은 성장 매개변수를 실시간으로 조정하여 원하는 필름 속성과 품질을 얻을 수 있습니다. VEECO MBE 장비는 또한 정확한 온도 조절 및 샘플 조작 기능을 제공하여, 연구자들은 균일성이 높고 필름 두께를 제어 할 수있는 에피 택시 필름을 성장시킬 수 있습니다. 이 시스템은 다양한 기판 재료와 크기를 수용할 수 있으며, 다양한 연구 응용에 유연성을 제공합니다. 또한, 이 장치에는 고급 자동화 (Automation) 및 소프트웨어 제어 (Software Control) 가 장착되어 있어 증착 과정을 간소화하고 다른 성장 실행에 걸쳐 재현 가능한 결과를 보장합니다. VEECO MBE 머신은 탁월한 성장 능력 외에도, 박막 성장을 위한 깨끗하고 오염이 없는 환경을 제공합니다. 증착실 내부에 유지되는 높은 진공 조건은 불순물의 존재를 최소화하고, 퇴적 된 필름의 높은 순도를 보장합니다. 이는 고품질 반도체 소자와 나노 구조 (정확한 전자 및 광학 특성) 의 제작에 중요합니다. 요약하자면, VEECO MBE 도구는 분자 빔 에피 택시 연구를위한 최첨단 도구이며, 원자 척도에서 박막 성장 및 재료 특성에 대한 탁월한 제어를 제공합니다. 고급 증착 소스, 현장 모니터링 도구, 온도 조절 및 자동화 기능을 갖춘 VEECO MBE 자산 (VEECO MBE Asset) 은 새로운 반도체 소스와 소자를 개발하기위한 다용도 플랫폼입니다. 그것의 신뢰성, 효율성, 다재다능성은 재료 과학, 나노 기술, 반도체 물리학 분야에서 일하는 연구자들에게 필수적인 도구가됩니다.
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