판매용 중고 VEECO Gen II #9359604

분자 빔 에피 택시 (Molecular beam epitaxy) 는 레이어 두께, 균일성 및 조성을 정확하게 제어하는 박막 재료를 만드는 고급 기술입니다. VARIAN/VEECO GEN II는 향상된 성능과 다용성을 제공하는 최첨단 분자 빔 에피 택시 장비입니다. VEECO GEN II는 기존 및 기존 Molecular Beam Epitaxy 시스템보다 더 높은 성장률을 달성하기 위해 설계되었으며, 레이어 두께, 균일성 및 조성에 대한 뛰어난 제어를 제공합니다. VARIAN GEN II는 3 개의 독립적 인 기화성 재료로 구성된 TMTS (Triple Metal, Tri-Source) 구성을 사용합니다. TMTS (Ultra-Low Dopant Fraction), 고지대 재료 균일성 (High Area Material Unifority) 및 조정 가능한 증가율을 통해 고객은 최적의 성능을 위해 장치 설계를 사용자 정의할 수 있습니다. 또한, TMTS의 대체 소스 암 (source arm) 은 구성 유연성 및 다중 계층 성장을 증가시키기 위해 반응물 재료의 추가 소스를 추가 할 수있다. GEN II는 또한 실시간 현장 모니터링 시스템 (in-situ monitoring system) 과 컴퓨터 제어 셔터 어셈블리 (computer-controlled shutter assembly) 를 갖추고 있으며, 이는 필름 성장을 더욱 통제합니다. 실시간 장치는 필름 두께, 균일성, 도핑 레벨을 모니터링하여 재료 증착 공정을 월등히 제어할 수 있습니다. 셔터 어셈블리 (shutter assembly) 를 사용하여 증착으로부터 일부 영역을 마스크하여 불순물 농도, 레이어 균일성 및 조성을 더 많이 제어할 수 있습니다. 향상된 성능 외에도 VARIAN/VEECO GEN II는 탁월한 환경 안정성과 청결성을 제공합니다. 이 기계에는 초저속 UHV (Ultra High Vacuum) 구성 요소가 장착되어 있어 오염 물질이 웨이퍼에 정착 할 가능성을 줄입니다. 또한, VEECO GEN II는 바람직하지 않은 먼지 입자의 형성을 제거하는 데 도움이되는 가스 빔 임펠러 (gas beam impeller) 를 특징으로하며, 이는 챔버로 나선형으로 나선형으로 되어 필름 성장을 오염시킬 수 있습니다. 전반적으로 VARIAN GEN II는 뛰어난 성능, 다용성 및 환경 안정성을 제공하는 고급 Molecular Beam Epitaxy 도구입니다. GEN II 는 탁월한 실시간 모니터링 기능, 사용자 지정 가능한 증가율, 구성요소, 초저가스 (초저가스) 구성 요소를 제공하여 증착 프로세스에 대한 제어를 강화하고, 균일성과 반복성을 갖춘 정밀하게 구조화된 박막 (thin film) 재료를 생성합니다.