판매용 중고 VEECO Gen II #9238179

VARIAN/VEECO GEN II는 고품질의 단결정 박막 제작을 위해 설계된 MBE (molecular beam epitaxy) 장비입니다. 에피 택시 층을 증착시키기 위해 정확한 흑연 발진 원과 결합 된 초고 진공 (UHV) 레벨을 사용합니다. 이 MBE 시스템의 독특한 특징은 우수한 전기 특성 및 표면 특성을 가진 고순도, 단일 결정 물질의 증착을 가능하게합니다. VEECO GEN II는 흑연 단면 효능 원과 2 챔버 장치로 구성됩니다. 소스는 링 암에 매달려 있으며, 성장 과정에서 조절 가능한 2 개의 노브 (knobs) 가 포함되어 있어 반 절연 및 반도체 재료의 정확한 증착이 가능합니다. 기계의 2 챔버 디자인은 고순도 아르곤, 수소 및 헬륨의 혼합물을 사용하여 우수한 UHV (1x10-10 Torr 이상) 를 제공합니다. 또한 샘플 플레이스-멘트 (place-ment) 및 로딩뿐만 아니라 샘플 제거에도 쉽게 액세스할 수 있습니다. VARIAN GEN II는 도구의 하드웨어와 통신하는 온보드 컴퓨터를 갖추고 있습니다. 이는 정확한 성장 매개변수 (예: 온도, 증착률 및 기판 제어) 를 제공하여 최적의 MBE 성능을 보장합니다. 컴퓨터는 또한 질량 흐름 컨트롤러 (Mass Flow Controller) 에 연결된 소프트웨어 패키지를 사용하여 자산의 실시간 가스 투여 및 증착률을 제어합니다. 이러한 기능을 통해 사용자는 각 증가 단계를 모니터링하고 필요에 따라 조정할 수 있습니다. GEN II 를 사용하면 다양한 산업 분야에서 고품질의 단일 크리스탈 박막 (single-crystal thin film) 을 정확하게 제작할 수 있습니다. 여기에는 반도체 장치를위한 오믹 접점 (ohmic contact) 또는 게이트 금속 화, 반도체 레이저를위한 고반사도 코팅의 증착, 화합물 반도체 장치의 제조가 포함됩니다. 이 모델의 고정밀 (high-precision) 결과는 전통적인 증착 방법과 비교할 때 우수한 전기 및 기계적 특성을 가진 제품을 생산할 수 있습니다. VARIAN/VEECO GEN II는 고급 MBE 장비로, 고품질의 단결정 박막 제작을위한 광범위한 기능을 제공합니다. 이 시스템의 2 챔버 디자인은 에피 택시 레이어를 증착하기위한 정확한 흑연 에퓨전 소스와 결합 된 우수한 UHV 레벨을 제공합니다. 온보드 컴퓨터는 정확한 성장 매개변수 (growth parameters) 를 제공하고, 성장 프로세스의 각 단계를 모니터링하며, 다양한 산업 응용 프로그램을 사용합니다. 따라서 VEECO GEN II는 뛰어난 성능을 가진 MBE 장치를 찾는 사람들에게 이상적인 선택입니다.