판매용 중고 VEECO Gen II #9073487
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ID: 9073487
웨이퍼 크기: 3"
MBE Growth system, 3"
(10) ports for dopants
Process: Growth of arsenides and phosphides
Liquid nitrogen
Phase separator
AlGaAs Laser
Room temperature: 6°C - 10°C
Vacuum:
Growth chamber (GC)
Triode ion pump: 400 l/sec
Buffer chamber (BC)
Triode ion pump: 200 l/sec
(2) TSP Controllers
Loadlock chamber (LC)
(100) CTI Cryotor cryopumps
(2) Vacshorption pumps
Ventury pump
In situ and calibration tools:
RHEED System: 0-10 keV
RHEED Oscillation growth rate calibration system
Cells:
EPI
Valved cracker with valved controller
Cable
Riber three zone
P Valved cracker with valve controller
Power supply
(4) 400g Sumo cells Ga, In, Al
(2) Dopont cells
Dual electronic equipment rack, 19"
(12) Solenson DC power supplies
Riber P valved cracker
2704 Dual channel
Eurotherm controller
Substrate and heated station
(2) DC Power supplies
Substrate heater
Heated station
Other tools:
Ircon optical pyrometer
Growth chamber and beam flux
(2) GP Ion gauge controllers
Buffer and loadlock chamber
RHEED Power supply
RGA Power supply unit
TEK Scope
Riber P cracker power supply
Pyrometer port heated viewport
Substrate manipulator controller
Loadlock chamber
Lamp power and controller
AGILENT / HP / HEWLETT-PACKARD / KEYSIGHT Chart record mounted
RHEED Oscillation recording
Trolley for substrate handling.
VARIAN/VEECO GEN II는 다양한 응용 분야에 사용하기 위해 박막 및 재료 층을 생산하는 데 사용되는 분자빔 에피 택시 (MBE) 장비입니다. 이 시스템은 메인 챔버, 성장 챔버, 에퓨전 셀, 펌프, 컴퓨터 제어 모니터 등 여러 구성 요소로 구성됩니다. 주 "챔버 '에는" 에큐전' 세포 가 있는데, 이것 은 증발 될 물질 의 근원 을 포함 하고 있다. 메인 챔버 (main chamber) 는 진공 밀봉되고 박막 성장은 성장실 내부에서 일어난다. 효능 세포는 최대 1000 ° C의 온도로 가열 될 수 있으며, 이는 물질의 증발을 가능하게한다. 챔버 벽은 MBE 성장 챔버 전체에서 균일 한 온도를 보장하기 위해 가열됩니다. VEECO GEN II는 3 ~ 200nm 범위의 두께가있는 박막 및 레이어를 생성 할 수 있습니다. 이 장치에는 3 개의 발작 세포가 장착되어 있으며, 모든 세포는 터보 분자 터보 분자 펌프에 연결되어 있습니다. 이를 통해 기계는 메인 챔버에서 1.0x10-10 토르 (Torr) 의 압력을 달성 할 수 있으며, 이는 박막 성장에 이상적입니다. 세포 는 또한 "필름 '증착 중 의 중성" 플럭스' 를 줄이기 위하여 외부 "배플 '을 장착 할 수 있다. 이 도구는 박막 (Thin Film) 과 레이어 (Layer) 를 생산하는 기능 외에도 컴퓨터 제어 모니터도 포함합니다. 이 모니터는 챔버 내부의 온도와 압력을 조절하고 성장 과정 (growth process) 을 모니터링하는 데 사용됩니다. 이 자산에는 챔버 온도 모니터링을위한 진공 물개 (vacuum seal) 및 열전대 (thermocouple) 와 같은 다양한 안전 기능도 포함되어 있습니다. VARIAN GEN II는 다양한 어플리케이션을 위해 박막 (thin film) 과 레이어 (layer) 를 제작하는 데 이상적인 모델입니다. 이 장비에는 대규모 박막 (Thin Film) 성장에 필요한 기능이 포함되어 있으며, 시스템의 컴퓨터 제어 모니터를 통해 박막 (Thin Film) 성장 과정을 정확하게 제어할 수 있습니다. 이 장치는 또한 모듈식 (modular) 으로 설계되어 필요에 따라 이큐전 셀 (effusion cell) 의 수를 확장하거나 줄일 수 있습니다. 강력한 디자인과 고급 기능을 갖춘 GEN II (GEN II) 는 박막 연구자와 개발자에게 탁월한 선택입니다.
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