판매용 중고 VEECO GEN II K #293650675

VARIAN/VEECO GEN II K Molecular Beam Epitaxy (MBE) 장비는 금속-산화물 구조, 하이브리드 필름 및 원자 수준 정밀도를 갖는 나노 구조를 생산하기 위해 기판에서 고순도 물질의 박막을 재배하는 데 사용되는 고급 시스템입니다. 이 단위는 두 가지 구성 요소, 즉 공정 챔버 (process chamber) 와 성장 챔버 (growth chamber) 로 구성되며, 둘 다 각 재료 층의 성공적인 증착에 기여합니다. 공정 챔버 (Process Chamber) 는 박막을 준비하고 박막 성장을 위해 진공 환경을 만드는 데 사용됩니다. 증발기, 포스핀 탱크 및 석영 냉장 함정과 같은 다양한 구성 요소가 포함되어 있습니다. 증발기는 기판에 낮은 수준의 불순물을 침전시키고, 초고진공을 생성하는 데 사용됩니다. 인조 (phosphine tank) 는 성장실에 특정 양의 인을 첨가하는 역할을 맡고 있으며, 석영 냉장 함정은 공정 챔버 (process chamber) 를 추가로 정제하는 데 사용됩니다. 성장 챔버 (Growth Chamber) 는 얇은 필름의 침착이 발생하는 곳입니다. 산화물 (oxides) 과 같은 고온 물질을위한 증발기, 더 높은 수준의 불순물을 첨가하기위한 전자 빔 증발기, 저에너지 전자 회절 필름의 결정 구조를 연구하기위한 (LEED) 소스, 균일 한 열 및 전기 조건을 유지하는 데 사용되는 안정화 소스 (stabilization source), 소스 유속 (source flow rate) 을 제어하는 데 사용되는 차단 밸브 세트. 이 기계에는 고급 컴퓨터 기반 제어 도구 (Advanced Computer-Based Control Tool) 가 포함되어 있어 각 재료 레이어의 매개변수를 정확하게 제어 할 수 있습니다. 이 에셋은 또한 무선 주파수 회전 소스 설정 및 감마 오프셋 설정에 대한 수동 제어를 제공합니다. 마지막으로, 이 모델에는 장비의 성능을 추적하는 다양한 모니터와 레코더가 포함되어 있습니다. 전반적으로 VEECO GEN II K 분자 빔 에피 택시 시스템 (Molecular Beam Epitaxy System) 은 금속 산화물 구조, 하이브리드 필름 및 나노 구조의 고품질 박막을 생산할 수있는 고급적이고 신뢰할 수있는 증착 장치입니다. 다양한 크기와 모양으로 매우 높은 순수 필름 (pure film) 을 생산할 수있는 다용도 기계입니다. 기술 응용용 고급 재료 (Advanced Materials) 의 연구 및 개발에 귀중한 도구입니다.