판매용 중고 VARIAN / VEECO UHV #9081064

분자 빔 에피 택시 (MBE) 는 나노 스케일에서 결정 물질의 제조에 사용되는 도구이다. VARIAN/VEECO UHV MBE 장비는 다양한 기판에서 복잡한 박막 물질의 증착을 위해 설계되었으며, 분자 성장을 통해 복잡한 이종 구조를 생성 할 수 있습니다. 고온, 고진공 시스템, 고증착 속도, 균일성 (unifority) 과 같은 고온 세포 및 전자 빔 건 (electron-beam gun) 과 같은 기존의 분자 빔 소스의 성분을 결합함으로써 달성된다. VEECO UHV MBE 장치의 중심에는 초고 진공 (VARIAN UHV) 챔버가 있습니다. 내부에는 기본 압력이 10-7 Torr 미만, 온도 범위가 최대 1200 ° C, 지름이 최대 6 "인 기판을 수용 할 수있는 환경이 있습니다. 이러한 조건은 분자 빔 증착 작업에 필수적입니다. VEECO MBE 기계는 UHV 챔버 외에도 이중 총 전자 빔 건, 증발 세포 및 스퍼터 소스를 포함한 분자 빔 소스 제품군을 갖추고 있습니다. 이중 총 전자 빔 건은 저온 증착을 위해 설계되었으며, 증발 셀은 고온 정밀도에 사용됩니다. 스퍼터 소스는 더 다양한 예금 기능을 제공합니다. 소스의 매개 변수를 제어함으로써 VARIAN/VEECO UHV MBE 도구는 거의 제한없는 다양한 박막 및/또는 이종 구조를 만들 수 있습니다. DC 및 RF 입력을 제공하는 별도의 전원 공급 장치 자산이 소스에 전원을 공급합니다. 이것은 재료의 정확하고 정확한 증착을 보장하는 데 도움이됩니다. 이 프로세스를 추가로 지원하는 것은 포지셔너, 자동 샘플 회전 시스템, 대량 흐름 컨트롤러 등의 자동화 구성 요소 선택입니다. 이러한 컴포넌트를 사용하면 사용자가 원하는 기판을 정확하게 선택하고 성장 프로세스 (growth process) 의 매개변수에 대한 정확한 제어를 유지할 수 있습니다. 마지막으로, VEECO UHV MBE 모델은 견고하고 인체 공학적 인클로저에 장착되어 있으며, 사용자의 편안함과 안전을 위해 설계되었습니다. 이 장비는 또한 다양한 고급 시스템 모니터링 (advanced system monitoring) 및 안전 시스템 (safety systems) 을 갖추고 있으며, 분자빔 에피 택시 프로젝트를 수행하는 모든 실험실에 이상적인 선택입니다.