판매용 중고 VARIAN / VEECO GEN III #9245294

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ID: 9245294
MBE System 500V Mark V Arsenic cracker 500V Phosphorus cracker Ion pump for buffer chamber (2) 5cc dopant cells (used for Si and Be) (2) 400g Sump aluminum cells (2) 400g SUMO cells (used for Gallium) (2) 250g DWL Sumo cells (used for Indium) Includes: Set of cryopanels Substrate manipulator CAR (Gen III) Electronics rack Molly interface Boards (For Molly interface).
VARIAN/VEECO GEN III는 매우 균일 한 구성 및 구조 특성을 가진 복잡한 나노 구조 필름을 생산할 수있는 매우 정교한 MBE (Molecular Beam Epitaxy) 장비입니다. 이를 통해 아원자 정확도로 고품질 반도체, 절연 및 금속 필름의 증착이 가능합니다. 다양한 강력한 기능을 갖춘 VEECO GEN III는 과학 및 산업 연구 시장에서 두드러집니다. VARIAN GEN III의 다목적 디자인은 필름의 플럭스, 컴포지션 및 형상을 제어하고 조작할 수 있습니다. 증착 과정은 2 개의 마그네트론을 사용하여 달성되며, 핵심 요소는 정확하게 모양의 석영 및 피롤 리틱 붕소 질화물 (PyCN) 세포로 구성된다. 마그네트론은 강력한 750 와트 전자 사이클로트론 공명 (ECR) 플라즈마 소스를 사용합니다. 10,000 분의 1의 정확도로 금속, 조성 및 가스 배열을 생성 할 수 있습니다. 샘플 기판은 증착 과정에서 직류 (direct current), 무선 주파수 (radio frequency) 또는 이온 빔 (ion beam) 을 통해 가열 될 수 있습니다. 이를 통해 결정 성장 메커니즘 (crystal growth mechanism) 의 조작과 제어 및 필름 구성의 수정이 가능합니다. 또한, 시스템에는 광학 방출 분광계 (OES) 가 포함되어 있으며, 이는 반응물 가스의 부분 압력, 도펀트의 농도, 상대적 증착 속도에 대한 정보를 제공합니다. GEN III는 통합 터치 스크린 컴퓨터 단자를 통해 쉽게 제어 및 모니터링 할 수 있습니다. 이 장치는 Windows 기반 운영 시스템을 중심으로 설계되어 고급 사용자 프로그래밍 및 모니터링 기능을 제공합니다. 이것은 복잡한 증착 및 재료 처리 실험 중에 더 큰 유연성과 정밀도를 허용합니다. 또한, 이 도구는 통합 데이터 로깅 자산 (data-logging asset) 과 함께 제공되며, 실험 매개변수에 대한 광범위한 문서와 샘플 특성에 대한 효과를 제공합니다. 전반적으로 VARIAN/VEECO GEN III는 고급 나노 구조 필름 및 재료의 증착을위한 이상적인 플랫폼을 제공합니다. "마그네트론 ', 열원 및" OES' 의 결합 을 통하여 사람 들 은 전례 없는 정확도 와 정확도 로 증착 과정 을 관리 하고 조작 할 수 있다. 탁월한 성능과 안정성을 제공하는 VEECO GEN III는 시장에서 가장 강력하고 정교한 MBE 시스템 중 하나입니다.
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