판매용 중고 VARIAN / VEECO GEN II #9243569

VARIAN/VEECO GEN II는 기판에서 반도체 재료의 고품질, 단일 계층 또는 다중 계층 결정 필름을 생산하는 데 사용되는 MBE (Molecular Beam Epitaxy) 장비입니다. 초고진공 (UHV) 챔버를 사용하며 3 개의 발진 세포, e- 빔 증발기, 가스 분사 시스템, 기판 스퍼터 건, 빔 쉐이핑 유닛, 쿼츠 크리스탈 모니터 및 하중 잠금 등의 구성 요소로 구성됩니다.. "에퓨전 '세포 는 기질 을 필요 한 성장 온도 로 올리고, 성장 과정 중 에 일정한 온도 로 유지 하는 데 사용 된다. 전자빔 증발기 (e-beam evaporator) 는 소스 물질을 증발시키고 기판의 원하는 영역으로 운반하는 데 사용됩니다. "가스 '주입 기계 는 물질 의 성장 특성 에 영향 을 주기 위하여" 가스' 를 약실 에 주입 하는 데 사용 된다. 기질 스퍼터 건 (기질 sputter gun) 은 성장 전에 기질을 청소하는 데 사용되며, 기판에 얇은 층의 물질을 침전시키는 데에도 사용된다. 빔-셰이핑 도구는 빔의 프로파일을 제어하는 데 사용됩니다. 석영 수정 모니터 (quartz crystal monitor) 는 퇴적되는 결정 필름의 두께를 측정하는 데 사용됩니다. 하중 잠금 (load lock) 은 UHV를 그대로 유지하면서 챔버 안팎으로 웨이퍼를 전송하는 데 사용됩니다. VEECO GEN II MBE 에셋은 제어 환경에서 고품질, 단일 레이어 또는 다중 레이어 크리스탈 필름을 생산할 수 있으며 5 x 10-10mbar 정도의 압력을 유지할 수 있습니다. 이 모델에는 기판 온도, 가스 흐름 (gas flow), 빔 매개변수 (beam parameter) 와 같은 성장 매개변수를 쉽게 작동하고 정확하게 제어 할 수있는 사용자 친화적 인 소프트웨어가 장착되어 있습니다. 이 소프트웨어를 통해 성장 (growth) 프로그램을 자동화하여 프로세스 효율성과 정확성을 극대화할 수 있습니다. 전반적으로 VARIAN GEN II MBE 시스템은 다양한 전자 및 광전자 응용 프로그램에 사용할 고품질, 단일 레이어 또는 다중 레이어 수정 필름을 생산하기위한 탁월한 선택입니다. 고급 제어 메커니즘과 정확한 성장 매개변수는 정확하고 일관된 결과를 보장합니다. 사용자 친화적인 소프트웨어와 자동화된 성장 프로그램 기능 (Automated Growth Program Capability) 을 통해, 사용하기 쉽고 효율적으로 원하는 결과를 만들 수 있습니다.