판매용 중고 VARIAN / VEECO GEN II #9225851

VARIAN/VEECO GEN II는 고품질 박막 반도체 재료를 생산하는 안정적인 방법을 제공하는 분자 빔 에피 택시 장비입니다. 이 "시스템 '은 진공실 로 구성 되어 있으며, 거기 에서 반응 이 일어난다. 그리고 일련 의 독립적, 그러나 상호 관련 된 성분 들 이 있다. 챔버에는 기판 척, 레이저 가열 소스, 셔터링 메커니즘, 가스 제어 장치, 증착 헤드 및 빠른 quenching 장치가 포함됩니다. 기판 "척 '을 통하여" 실리콘 웨이퍼', 유리판, 갈륨 비소 "웨이퍼 '와 같은 기판 표본 을 확보 할 수 있다. "레이저 '가열" 소오스' 는 최대 1000 "° C '의 원하는 온도 로 조정 될 수 있으며, 그 로 인해 고도 의 에피택시얼' 성장 에 충분 한 열 을 낼 수 있다. "셔터링 '장치 는 반응물" 빔' 을 정확 하게 제어 하고 "레이저 '가열 원 과 함께 작용 하여 기판 전체 의 열 을 균등 히 분배 할 수 있게 한다. "가스 '조절 장치 는 별도 의" 가스' 상자 를 사용 하여 낮은 진공 압력 에서 증착 이 가능 하다. 이것은 최소한의 오염과 최소한의 표면 거칠기로 효과적인 MBE 프로세스를 보장합니다. 증착 헤드는 거의 모든 에피 택시 필름 (epitaxial film) 의 원하는 구성을 제공하기 위해 튜닝 될 수있다. 제작된 레이어는 사용자의 요구에 따라 나노미터 (nanometer) 에서 마이크로미터 (micrometer) 까지 다양합니다. 급속한 quenching 장치는 셔터처럼 작동하며, 원치 않는 상호 작용을 피하고 균일 한 필름 증착을 보장하기 위해 필름 증착을 빠르고, 정확하게 막습니다. VEECO GEN II는 안정적이고 정확한 방법으로 고품질의 박막 반도체 재료를 생산합니다. 또한, 이 도구는 고급 에피택셜 성장에 필요한 다양한 두께, 컴포지션 및 서피스 거칠기의 레이어를 생성 할 수 있습니다. 간단히 말해, VARIAN GEN II는 박막 반도체 재료를 생산할 때 정확성과 신뢰성이 필요한 사용자에게 이상적인 솔루션입니다.