판매용 중고 VARIAN / VEECO GEN II #9211011

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ID: 9211011
MBE System (2) Sumo cells: In & Ga Cracker cell w/auto valve positioner 9.9^10 with LN2 CBr4 System for carbon Dry scroll pump.
VARIAN/VEECO GEN II는 초고순도 반도체 필름의 대용량 생산을 위해 설계된 최첨단 MBE (Molecular Beam Epitaxy) 장비입니다. 이 시스템은 최상위 집적 회로 및 기타 고급 전자 제품 제작에 광범위하게 사용됩니다. VEECO GEN II (VEECO GEN II) 는 분자 빔 기술을 사용하여 에피 택시 층을 형성하기 위해 기판에 증착 된 원자 또는 분자의 빔을 생성하는 경제적이고 효율적인 단위입니다. 기계는 다양한 기판에서 구성, 구조, 두께가 균일 한 필름을 생성합니다. VARIAN GEN II는 단일 프로덕션 실행에서 광범위한 장치 구조를 만들 수 있습니다. 이 도구는 4 가지 주요 구성 요소로 구성되어 있습니다. 기판 소스; 진공 시스템; 분자 빔 소스; 및 뒷면 기판 처리 장치. 기판 소스 (substrate source) 를 통해 사용자는 처리 단계 사이의 기판을 빠르고 쉽게 변경할 수 있으며, 진공 시스템은 공정의 안정적이고 저압 환경을 유지하기 위해 사용됩니다. 분자 빔 소스 (Molecular Beam Sources) 는 에셋 (epitaxial layer) 을 생성하는 데 사용되는 매우 순수한 원자 빔 또는 분자를 제공합니다. 마지막으로, 백 사이드 기판 처리 장치 (Back-Side Substrate Handling Unit) 는 전체 프로세스 전체에서 기판의 위치와 움직임을 조절하는 데 사용됩니다. GEN II 모델은 사용하기 매우 간단하며, 안정적이고 유연한 도구로 만드는 많은 고급 (advanced) 기능이 통합되어 있습니다. 기판의 정확한 위치를 완벽하게 제어할 수 있으며, 동시에 멀티 스텝 (multultipstep) 처리를 수행할 수 있습니다. 그 장비 는 정확 하고 정확 한 두께 로 "레이어 '를 생성 할 수 있으며, 이" 레이어' 는 "레이어 '의 조성 과 도핑 을 모두 고도 로 조절 한다. 또한, VARIAN/VEECO GEN II 시스템에는 직관적인 그래픽 사용자 인터페이스 (Graphical User Interface) 가 장착되어 있어 경험이 부족한 사용자가 컨트롤을 배우고 몇 분 안에 자체 장치를 생산할 수 있습니다. 결론적으로, VEECO GEN II는 단일 프로덕션 실행에서 초고순도 에피 택시 필름을 생산할 수있는 강력하고 신뢰할 수있는 유닛입니다. 복잡한 디바이스의 대용량 생산에 이상적인 이 머신은 탁월한 성능과 탁월한 유연성을 제공합니다. 사용이 간편한 GUI (Graphical User Interface) 를 통해, VARIAN GEN II는 최강의 집적 회로 및 기타 최첨단 전자 장치를 만들려고하는 모든 사람에게 이상적인 도구입니다.
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