판매용 중고 RIBER R32 #293807153

리버 R32 (RIVER R32) 는 고품질 박막 및 나노 구조의 정확한 성장을 위해 원자 계층 제어를 통해 설계된 최첨단 MBE (molecular beam epitaxy) 장비입니다. 이 고급 시스템은 최첨단 (state-of-art) 기능과 기능을 갖추고 있어 연구, 개발, 생산 응용프로그램을 위한 복잡한 반도체 구조를 증설할 수 있습니다. R32 유닛의 중심에는 초고 진공 (UHV) 챔버가 있으며, 이는 epitaxial 성장 과정을위한 깨끗한 환경을 제공합니다. UHV 챔버 (UHV Chamber) 는 오염을 최소화하고 퇴적 물질의 순도를 보장하기 위해 매우 낮은 압력으로 유지됩니다. 이는 MBE 성장의 재현 가능한 결과와 높은 재료 품질을 달성하는 데 중요합니다. RIBER R32 머신은 에피 택셜 성장 프로세스 (epitaxial growth process) 동안 다른 요소의 제어 된 전달을위한 여러 고유 한 증착 소스를 특징으로합니다. 이러한 소스에는 효능 세포, 고체 소스 및 가스 크래커 (gas cracker) 가 포함되어 III-V 화합물, II-VI 화합물 및 산화물 물질과 같은 광범위한 물질의 증착이 가능합니다. 다재다능한 증착 원은 다양한 이종 구조와 맞춤형 특성을 가진 복잡한 나노 구조의 성장을 가능하게합니다. R32 도구의 주요 강점 중 하나는 고급 빔 플럭스 제어 기능 (Advanced Beam Flux Control Capability) 으로 증착 중 성장 매개변수를 정확하게 조작할 수 있습니다. 자산에는 고급 셔터, 빔 플럭스 모니터 (beam flux monitor), 플럭스 제어 소프트웨어 (flux control software) 가 장착되어 있어 각 요소의 플럭스를 실시간으로 정확하게 조정할 수 있습니다. 이 수준의 제어는 균일 한 필름 두께, 정확한 구성 제어 및 재생성 가능한 성장 동역학을 달성하는 데 필수적입니다. 또한 RIBER R32 모델은 각 연구 프로젝트의 특정 요구 사항을 충족할 수 있도록 사용자 정의 가능한 성장 구성을 제공합니다. 이 장비는 다양한 웨이퍼 크기, 기판 재료, 성장 기술을 수용할 수 있으며, 광범위한 MBE 애플리케이션을 위한 다용도 플랫폼입니다. 또한, 이 시스템은 사용 편의성 (user-friendly) 인터페이스 및 소프트웨어 제어를 통해 실험적인 프로세스를 간소화할 수 있도록 설계되었습니다. R32 장치는 고급 증착 기능 외에도 인사이트 모니터링 (in-situ monitor) 및 분석 도구 (analysis tools) 를 갖추고 성장하는 필름의 실시간 특성을 제공합니다. 이러한 도구에는 성장 중 필름 구조, 구성 및 품질에 대한 귀중한 피드백을 제공하는 반사 고 에너지 전자 회절 (RHEED), Auger 전자 분광법 (AES) 및 질량 분석법이 포함됩니다. 이를 통해 사용자는 성장 조건을 최적화하고 원하는 필름 속성을 얻을 수 있습니다. 전반적으로, RIBER R32 MBE 머신은 재료 과학 및 반도체 장치 제작의 경계를 추진하려는 연구원 및 업계 전문가들에게 강력한 도구입니다. 고급 기능, 정확한 제어 메커니즘, 포괄적인 성장 모니터링 툴을 갖춘 R32 툴을 통해 뛰어난 품질과 재현성을 갖춘 고성능 박막 (Thin Film) 과 나노 (Nanosstructure) 를 생산할 수 있습니다.