판매용 중고 RIBER 49 #9193092

분자 빔 에피 택시 (MBE) 는 진공 증착 과정의 한 유형으로, 정확한 재료 층을 가진 얇은 필름을 만드는 데 사용됩니다. RIBER 49는 광전자 성분에 사용하기 위해 반도체 요소, 합금 및 화합물 (예: 갈륨 비소, 인화 인듐, 질화 갈륨) 을 퇴적시키는 데 사용되는 MBE 장비입니다. 49 개는 2 개의 전자 빔 증발기와 3 개의 다른 이큐전 셀을위한 콘센트를 수용하는 폐쇄 된 동굴 소스를 사용합니다. 2 개의 전자 빔 원 (electron-beam source) 은 증기 압력이 높은 금속 및 기타 물질을 증착시키는 데 사용되며, 3 개의 이큐전 셀 각각은 개별 성분의 증착에 사용된다. 이 시스템에는 이온 원, 석영 결정 두께 모니터, 샘플 난방 단계 및 잔류 가스 모니터가 포함됩니다. 또한, RIBER 49는 분광계에 연결되어 증착 물질의 조성을 결정할 수있다. 49는 자기 보조 빔 단위를 사용하여 물질을 기판 표면으로 향합니다. 자석 은 "빔 '의 확산 을 감소 시키기 위하여 사용 되며, 이 로 인하여" 자켓' 은 퇴적 된 "필름 '의 구성 과 두께 를 조절 할 수 있게 된다. 그 물질 을 가열 시켜 증발 시키고, 기질 을 가열 시켜 증착 된 "필름 '의 결함 의 수 를 감소 시킨다. 재료가 기판에 배치되면, 레이어의 두께는 쿼츠 결정 두께 모니터 (quartz crystal thickness monitor) 에 의해 제어됩니다. 이 기구 는 "쿼츠 크리스탈 '을 사용 하여" 빔' 아래 의 기질 의 진동 을 감시 하고 기판 에 증착 되는 물질 의 양 을 조절 한다. 기판은 또한 샘플 난방 단계 (sample heating stage) 를 사용하여 조작 될 수 있으며, 이 단계를 통해 기질이 물질의 정확한 증착을 위해 챔버에서 다시 기울어지고, 이동되고, 기울어질 수있다. 일단 재료 를 적정 하게 증착 시키면, 잔류 "가스 '" 모니터' 를 사용 하여 증착실 에 있는 외국 입자 들 의 오염 수준 을 확인 할 수 있다. 이렇게 하면 원하는 레이어만 배치되고 최종 제품에서 모든 불완전성 (imperfections) 이 제거됩니다. 리버 49 (RIVER 49) 는 반도체 구성 요소와 정확한 층을 가진 광전자 장치를 만드는 데 주로 사용되는 고급적이고 정밀한 MBE 기계입니다. 메탈릭 (Metallic) 및 비금속 (Non-Metallic) 재료를 쉽게 침착시키는 데 사용될 수 있으며, 재료 구성 및 레이어 두께를 정량화하는 기능은 고품질 광전자 부품을 생산하는 데 이상적입니다.