판매용 중고 ZEISS / HSEB ZML-200 #9249420

ZEISS/HSEB ZML-200은 정밀 마스크 및 웨이퍼 검사를위한 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. 광학 요소와 유연한 레티클 (flexure reticle) 사이의 고유한 간격을 활용하여 정밀한 정렬과 뛰어난 이미지 해상도를 제공합니다. HSEB ZML-200 (HSEB ZML-200) 은 업계 최고의 다크필드 센서 모듈 (Darkfield Sensor Module) 과 특허를 획득한 알고리즘을 통해 고속, 고해상도 이미징 (High Resolution Imaging) 기능을 제공합니다. 이 시스템은 레티클, 다크필드 이미징 카메라, 광원으로 구성됩니다. 레티클은 중앙 링 (central ring) 과 조정 가능한 레티클 홀더에 연결된 2 개의 조절 가능한 암으로 구성됩니다. 따라서 검사 (Inspection) 광학의 위치를 정확하게 구성하여 고품질 이미지를 확인할 수 있습니다. 다크필드 이미징 카메라에는 외부 CCD 이미지 센서와 내부 시야각 (field-of-view) 이 장착되어 있어 테스트된 마스크 또는 웨이퍼를 광범위하게 볼 수 있습니다. 이를 통해 장치가 가장 작은 결함까지도 감지 할 수 있습니다. 광원은 고유 한 형광 및 UV 조명을 사용하여 최대 조명을 위해 설계되었습니다. 이렇게 하면 전체 영역에서 균일한 조명을 보장하고, 균등하고 최적의 밝기를 제공합니다. 또한, 특수 디지털 이미징 (digital imaging) 기능을 통해 기계는 사람의 눈의 임계 값 이하에있는 결함 (예: 가장 복잡한 세부 사항) 도 캡처 할 수 있습니다. ZEISS ZML-200은 다양한 마스크와 웨이퍼를 검사 할 수 있습니다. 사진 마스크, 웨이퍼 및 임계 치수 (CD) 측정과 같은 다양한 검사 유형에 사용할 수 있습니다. 이 툴에는 검사 프로세스 (Inspection Process) 및 데이터 수집 (Data Collection) 에 필요한 소프트웨어가 설치되어 있습니다. 이 자산은 직관적인 소프트웨어 인터페이스와 함께 사용하기 매우 쉽고, 직관적인 사용자 인터페이스 (user interface) 를 통해 데이터를 효율적으로 분석하고 해석할 수 있습니다. ZML-200은 마스크 및 웨이퍼 검사에 이상적인 도구입니다. 이 모델은 효과적인 결함 감지를 위해 탁월한 정확도, 고속, 정확한 이미징, 정교한 알고리즘을 제공합니다. 직관적인 사용자 인터페이스 (user interface) 와 고급 소프트웨어 도구 (advanced software tools) 는 마스크 및 웨이퍼 검사를 위한 안정적이고 효율적인 도구입니다.