판매용 중고 ZEISS / HSEB ZML-200 #9249419

ZEISS/HSEB ZML-200 (ZEISS/HSEB ZML-200) 은 반도체 장치 제작의 어려운 영역에서 탁월한 성능을 제공하는 업계 최고의 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. 시간당 최대 200개의 웨이퍼 (wafer per hourthput) 를 통해 대용량 운영 실행을 효율적으로 검사할 수 있습니다. HSEB ZML-200 (HSEB ZML-200) 은 고해상도 CCD 카메라를 사용하여 각 마스크 또는 웨이퍼를 스캔하여 제조 과정에서 발견되지 않은 결함을 검색합니다. 기본 제공되는 결함 감지 알고리즘과 사용자 정의 사용자 인터페이스 (customized user interface) 를 활용하면 마스크 또는 웨이퍼 중 가장 작은 결함까지 신속하게 식별할 수 있습니다. 이 기계는 또한 사용이 쉽고, 빠르게 동작할 수 있도록 설계되었으므로, 사용자가 검사되는 마스크나 웨이퍼 (wafer) 를 빠르고 정확하게 진단할 수 있습니다. 공구의 속도와 정확도를 더욱 향상시키기 위해, 자산에는 고급 고밀도 초점 제어 (High-Precision Focus Control) 모델이 장착되어 있습니다. 이 장비는 마스크 (mask) 또는 웨이퍼 (wafer) 의 모든 기능에 빠르게 초점을 맞추어 빠른 지점 간 (point-to-point) 또는 영역 간 (area-to-area) 검사를 수행할 수 있습니다. 이 시스템은 또한 여러 반도체 장치 레시피 (레시피) 를 테스트하여 최대 제품 수율을 보장하는 기능을 갖추고 있습니다. 금속 및 절연 레이어의 복잡한 네트워크를 모니터링하여이 장치는 라인 너비 변형, 쇼트 (shorts), 오픈 (open), 격리 된 결함 및 오버 버빙 (overubbing) 을 포함한 다양한 결함을 감지 할 수 있습니다. 컴퓨터에는 자체 테스트 (self-testing) 기능이 있어 유지 보수가 제대로 완료되었는지 확인합니다. 마지막으로, ZEISS ZML-200은 사용자가 작업을 사용자 정의할 수 있도록 다양한 소프트웨어 옵션을 갖추고 있습니다. 기본 제공되는 결함 분석 (defect analysis) 소프트웨어를 사용하여 사용자는 검사로부터 데이터를 기록하고 저장할 수 있습니다. 또한, 이 도구는 패턴 인식 최적화 소프트웨어 (pattern recognition optimization software) 를 갖추고 있어 사용자 입력에 따라 자산의 스크리닝 설정을 지속적으로 배우고 수정할 수 있습니다. 결론적으로, ZML-200 은 업계 최고의 마스크/웨이퍼 검사 모델로, 생산 생산량을 극대화하고, 비용을 절감하며, 마스크/웨이퍼 검사에 소요되는 시간을 줄여줍니다. 고해상도 CCD 이미징, 맞춤형 사용자 인터페이스, 최첨단 결함 분석, 패턴 인식 최적화 소프트웨어 등 최강의 기능을 갖춘 ZEISS/HSEB ZML-200 은 모든 반도체 디바이스 구성 기능을 위한 완벽한 선택입니다.